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《北京化工大学》 2011年
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HPTS/水滑石复合材料的制备及其光学性能研究

党思乐  
【摘要】:本论文采用水热共沉淀法制备了8-羟基-1,3,6-三磺酸基芘阴离子(HPTS3-)和辛烷磺酸阴离子(OS)共插层Zn-Al水滑石复合体系;研究了插层对其光学特性产生的影响。通过溶剂蒸发法在ITO衬底上构筑了HPTS-OS/水滑石薄膜并研究了其传感器性能。 采用水热合成法制备了HPTS-OS/Zn-Al水滑石插层材料,XRD测试结果表明,客体分子进入层间,且晶型较好。荧光光谱测试表明,调变不同的插层比例,以HPTS(2%)-OS/Zn-Al水滑石共插层产物荧光最强。辛烷磺酸根阴离子有效的防止了HPTS3-的聚集,与插层前的固体粉末相比,荧光强度得到了较大的提高。由于水滑石层间的限域效应大大束缚了HPTS的激发态质子转移行为,因此产物具有较强的蓝光发射。插入水滑石层间的荧光分子受到水滑石层板的保护,带正电荷的层板对于某些阳离子型淬灭剂的淬灭效果起到了很好的屏蔽作用。例如在水溶液中Cu2+是有效的淬灭剂,但插层后的产物在较高的Cu2+浓度下也保持良好的荧光特性。 进一步研究了HPTS-OS/Zn-Al水滑石插层材料在光学原型传感器方面的应用。采用溶剂蒸发法制备的HPTS-OS/水滑石薄膜在pH传感方面表现出了良好的光稳定性,对pH变化有较快的响应速度,在较宽的范围内显示了良好的线性关系。对此类水滑石复合材料的应用做了有益的探索,初步发掘了该材料在荧光领域的潜在价值。
【学位授予单位】:北京化工大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2011
【分类号】:TB332

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【参考文献】
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