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《东北大学》 2010年
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镜面铝板的制备工艺研究

张卫卫  
【摘要】:铝材由于具有丰富的蕴藏和多种优良性能,被广泛应用于工农业各部门。而近年来镜面抛光铝材得到飞速发展,已经被广泛应用于各类高档民用产品。目前生产镜面铝的主要方法为电解抛光。 本文主要对1070工业纯铝、1085工业纯铝和5N5高纯铝的电解抛光进行研究,以期获得生产镜面铝较佳的抛光工艺。考虑到目前的硝酸型和铬酸型电解抛光液都存在严重污染环境的问题,因此选用了高氯酸型和硫酸-磷酸型电解抛光液。将每种铝材分别在两种电解抛光液中进行电解抛光,在电解抛光的过程中改变电流密度、时间、温度来研究工艺参数对抛光效果的影响,由此确定纯铝电解抛光的最佳工艺。研究了铝材的纯度和轧制后退火与否对抛光效果的影响。 通过实验得到以下结论:(1)金属材料的纯度不同会对抛光效果产生影响,相对于1070工业纯铝和1085工业纯铝,5N5高纯铝抛光后所得表面质量较好,在高氯酸型抛光液中和硫酸-磷酸型抛光液中均能获得98%的反射率和一级表面光洁度。1085工业纯铝在高氯酸型抛光液中能获得的最高反射率为90%,最佳表面光洁度为一级。1070工业纯铝在硫酸-磷酸型抛光液中的反射率仅能达到85%。1070工业纯铝在高氯酸型抛光液中和1085工业纯铝在硫酸-磷酸型抛光液中的反射率能够达到90%,但是表面光洁度只能达到二级。(2)表面光洁度为一级且反射率达到90%以上的抛光工艺条件如下:1085工业纯铝在高氯酸型抛光液中最佳的工艺为:电流密度:0.1~0.2A/cm2,抛光时间:10~12min,抛光温度:5~15℃;5N5高纯铝在高氯酸型抛光液中最佳的工艺为:抛光电流密度:0.2A/cm2,抛光时间:22~28min,抛光温度:5~10℃;在硫酸-磷酸型抛光液中较佳的工艺为:电流密度:0.2~0.4A/cm2;抛光时间:15-35min,抛光温度:85~95℃。(3)在电解抛光过程中,抛光工艺不合适的条件下会产生白膜、麻点、流痕等缺陷,导致表面光洁度和反射率下降。
【学位授予单位】:东北大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2010
【分类号】:TG175

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