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CVD曲面金刚石膜和单晶金刚石的制备及性质研究

王启亮  
【摘要】:本文采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD, Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition)方法,制备CVD曲面多晶金刚石膜和单晶金刚石,研究了其生长特性及性质。在石墨及钼衬底上沉积高质量的自支撑曲面多晶金刚石膜,讨论了不同实验条件及衬底对其性质的影响;在CVD曲面多晶金刚石膜上用水热法生长TiO2纳米管,研究了其对光催化的影响。CVD单晶金刚石生长方面,讨论了加入N2(O2)及混合气体、CO:和N2O对单晶金刚石生长的影响,同时优化条件,生长出大尺寸高质量透明单晶金刚石,并研究了等离子体退火处理对单晶金刚石的影响,制备了CUD单晶金刚石刀具。


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