真空阴极弧制备TiAlN薄膜的工艺及性能研究
【摘要】：真空阴极电弧离子镀作为物理气相沉积的一种方法,尤其适用于在金属表面制备各种金属膜或化合膜,本文用该方法制备了TiAlN薄膜,并对结构和性能进行分析。TiAlN薄膜具有优良的高温耐腐蚀和抗氧化能力,,而且其具有比TiN更好的耐摩性,具有广阔的应用前景。
在本文中,我们用真空阴极弧离子镀制备了不同氮气分压和不同偏压模式下的TiAlN薄膜,使用的靶材是Ti、A1合金靶,原子比Ti(50)：Al(50),基片采用不锈钢。实验中发现膜层的结构和性能随工艺参数的变化而变化,分别用XRD、SEM、AFM对膜层的元素组成、晶体结构和表面形貌进行分析,此外还分析了不同工艺参数下膜层的纳米硬度、杨氏模量和电化学腐蚀。
【学位授予单位】：长春理工大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2011
【分类号】：O484.1
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