收藏本站
《长春理工大学》 2011年
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

真空阴极弧制备TiAlN薄膜的工艺及性能研究

高国珺  
【摘要】:真空阴极电弧离子镀作为物理气相沉积的一种方法,尤其适用于在金属表面制备各种金属膜或化合膜,本文用该方法制备了TiAlN薄膜,并对结构和性能进行分析。TiAlN薄膜具有优良的高温耐腐蚀和抗氧化能力,,而且其具有比TiN更好的耐摩性,具有广阔的应用前景。 在本文中,我们用真空阴极弧离子镀制备了不同氮气分压和不同偏压模式下的TiAlN薄膜,使用的靶材是Ti、A1合金靶,原子比Ti(50):Al(50),基片采用不锈钢。实验中发现膜层的结构和性能随工艺参数的变化而变化,分别用XRD、SEM、AFM对膜层的元素组成、晶体结构和表面形貌进行分析,此外还分析了不同工艺参数下膜层的纳米硬度、杨氏模量和电化学腐蚀。
【学位授予单位】:长春理工大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2011
【分类号】:O484.1

手机知网App
【引证文献】
中国硕士学位论文全文数据库 前1条
1 苗志岭;偏压占空比对电弧离子镀氮化物薄膜结构和性能的影响[D];中国地质大学(北京);2012年
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前3条
1 庄大明,张弓,刘家浚;功能薄膜的研究现状与应用前景[J];中国表面工程;2001年04期
2 张生俊,陈光华,邓金祥,宋雪梅,邵乐喜;几种新型超硬薄膜的研究进展[J];物理;2001年10期
3 李瑛,屈力,王福会,邵忠宝;TiN涂层电化学腐蚀行为研究 Ⅰ.TiN涂层的保护性能与失效机制[J];中国腐蚀与防护学报;2003年02期
【共引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 冯信华,何笑明,陈丽,尹盛,周海云,赵宁,李忠,王敬义;冷等离子体对硅粉薄层的提纯研究[J];半导体技术;1998年04期
2 李宁,卢迪芬,陈森凤;溶胶-凝胶法制备薄膜的研究进展[J];玻璃与搪瓷;2004年06期
3 庄大明,张弓,刘家浚;功能薄膜的研究现状与应用前景[J];中国表面工程;2001年04期
4 公衍生,王传彬,沈强,张联盟;氧化物功能薄膜材料的研究新进展[J];中国表面工程;2004年04期
5 刘荣祥;周立文;杨玉杰;曹先启;;电弧喷涂Ti6Al4V涂层的组织与耐蚀性能研究[J];表面技术;2011年01期
6 于雁武;刘玉存;郑欣;张海龙;;冲击波作用合成氮化碳及表征[J];爆炸与冲击;2011年02期
7 吴强,罗自林;磁存储的研究现状及发展方向[J];重庆邮电学院学报(自然科学版);2005年01期
8 李福球;洪瑞江;余志明;代明江;林松盛;;真空阴极离子镀法制备Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜[J];材料保护;2009年10期
9 崔春翔,胡克傲,吴人洁;光功能材料[J];材料导报;1996年02期
10 刘吉延,斯永敏;AIN压电薄膜研究进展[J];材料导报;2003年S1期
中国重要会议论文全文数据库 前1条
1 王福吉;贾振元;赵建国;刘巍;;悬臂梁式超磁致伸缩薄膜驱动器动力学模型[A];2007年中国机械工程学会年会论文集[C];2007年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 花国然;基于激光扫描的纳米陶瓷涂层及纳米结构块体制备技术的基础研究[D];南京航空航天大学;2003年
2 马勇;ZnO薄膜制备及性质研究[D];重庆大学;2004年
3 王永仓;双高掺杂锰氧化物薄膜的特性研究及薄膜生长的数值模拟[D];西北工业大学;2006年
4 王立无;红外薄膜系统的设计和制备[D];四川大学;2007年
5 杨晓红;WO_3基气敏传感器薄膜材料的性质及应用研究[D];重庆大学;2008年
6 李淑英;磁致伸缩层状复合材料性能与器件研究[D];河北工业大学;2008年
7 徐阳;表面沉积纳米二氧化钛纺织材料的制备及其性能研究[D];江南大学;2009年
8 张陆旻;导热高分子复合材料的制备、性能与应用[D];华东理工大学;2010年
9 胡敏;磁控溅射Ti/TiN多层薄膜制备及其性能研究[D];南昌大学;2010年
10 于雁武;炸药爆炸冲击合成氮化碳及其机理研究[D];中北大学;2010年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 周书刚;真空阴极弧制备纳米复合Zr-C-N薄膜的研究[D];长春理工大学;2010年
2 张凇铭;电弧离子镀过程中脉冲偏压对TiCN薄膜的影响[D];长春理工大学;2010年
3 毋娟;凝胶注模莫来石隔热材料的制备与性能[D];郑州大学;2010年
4 邹平;Bi系Co基氧化物热电陶瓷及薄膜的制备与性能研究[D];昆明理工大学;2008年
5 吴东;Ca-Co-O体系氧化物热电材料的制备与性能研究[D];昆明理工大学;2008年
6 徐海军;二步法制备绒面结构ZAO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳电池前电极应用研究[D];景德镇陶瓷学院;2011年
7 方成林;Ti掺杂WO_3薄膜的制备及气敏性能研究[D];重庆师范大学;2011年
8 孙凤;Ti-Si-N材料薄膜组分扩展方法研究[D];大连理工大学;2011年
9 周丽萍;基于TiO_2薄膜的电阻开关特性研究[D];杭州电子科技大学;2011年
10 葛永梅;医用纯钛表面纳米膜层的制备及其生物性能研究[D];华南理工大学;2011年
【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 王永康,夏立芳,刘万怀;(Ti,Al)N涂层组织结构及其性能的研究[J];兵器材料科学与工程;1992年05期
2 蔡长龙,王季梅,弥谦,杭凌侠,严一心,徐均琪;脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究[J];表面技术;2002年06期
3 王祥春;国外中空热阴极放电离子镀技术现状[J];材料保护;1982年03期
4 徐新乐;多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜[J];材料保护;2000年08期
5 王永康,熊仁章,雷廷权,夏立芳,李炳生;Al含量对Ti_(1-X)Al_XN涂层组织结构的影响[J];材料工程;2002年08期
6 董超苏;代明江;邱万奇;林松盛;胡芳;;阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr/ZrN多层膜的腐蚀特性[J];电镀与涂饰;2009年06期
7 王步云,李正瀛;脉冲放电对超微颗粒形成的影响[J];高电压技术;1996年01期
8 毛延发;唐为国;刘金良;韩培刚;;TiAlN纳米复合涂层的技术进展[J];工具技术;2006年04期
9 陈宝清;朱英臣;王斐杰;王玉魁;;磁控溅射离子镀技术和铝镀膜的组织形貌、相组成及新相形成物理冶金过程的研究[J];热加工工艺;1984年05期
10 穆静静;王从曾;马捷;郑国龙;;多弧离子镀TiN/Cu纳米复合多层膜致硬机理的探讨[J];热加工工艺;2008年08期
中国博士学位论文全文数据库 前3条
1 黄美东;脉冲偏压电弧离子镀低温沉积研究[D];大连理工大学;2002年
2 戴华;真空阴极电弧离子镀层中宏观颗粒去除技术研究[D];上海交通大学;2009年
3 赵时璐;多弧离子镀Ti-Al-Zr-Cr-N系复合硬质膜的制备、微结构与性能[D];东北大学 ;2010年
中国硕士学位论文全文数据库 前7条
1 郭慧梅;脉冲偏压电弧离子镀大颗粒净化的理论与实验研究[D];大连理工大学;2004年
2 李谋;脉冲偏压电弧离子镀纳米硬膜的制备与表征[D];大连理工大学;2005年
3 陈淑花;多弧离子镀制备TiN/A1N纳米多层膜及其性能的研究[D];武汉科技大学;2005年
4 车德良;多弧离子镀氮化物薄膜的性能及应用[D];大连理工大学;2006年
5 刘志远;磁控溅射制备TiAlN薄膜及性能分析[D];西华大学;2008年
6 杨娟;脉冲偏压电弧离子镀氮化铬涂层的制备技术及性能[D];西南大学;2009年
7 李晓芳;TiN薄膜的制备及其腐蚀磨损性能研究[D];太原理工大学;2010年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前2条
1 万云,万发宝,平一梅,王瑞兰,姚久胜,李宏成;高Tc超导GdBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜双晶晶界结及双晶结光探测器[J];低温与超导;2000年02期
2 彭正顺,杨秉川,王小平,石东奇,华志强,赵忠贤;用分割靶法制备Y_(1-x)Ho_xBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜[J];稀有金属;1996年01期
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 ;光学薄膜材料及器件[J];中国光学与应用光学文摘;1996年05期
2 ;制膜技术与装置[J];中国光学与应用光学文摘;2002年04期
3 ;其它[J];中国光学与应用光学文摘;1996年05期
4 ;镀膜技术及设备[J];中国光学与应用光学文摘;1996年05期
5 邵净羽;王德苗;任高潮;;关于真空激光减薄薄膜技术的研究[J];真空科学与技术学报;2008年S1期
6 ;黄磊教授简介[J];上海师范大学学报(自然科学版);2009年05期
7 ;膜系设计[J];中国光学与应用光学文摘;1996年05期
8 范平,邵建达,易葵,齐红基,范正修;纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究[J];中国激光;2005年07期
9 田鑫;张大伟;黄元申;倪争技;庄松林;;成像器件紫外增强薄膜技术研究进展[J];激光杂志;2008年05期
10 张德元,邓鸣,彭文屹,许兰萍,杨春燕;离子镀TiAlN超硬膜耐磨性研究[J];金属热处理学报;1997年02期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 ;Deposition and Characterization of TiAlN/AlON Superhard Nanomultilayered Coatings Prepared by Reactive Magnetron Sputtering[A];2011中国功能材料科技与产业高层论坛论文集(第三卷)[C];2011年
2 陳隆建;田青禾;羅意敏;王雅欣;;应用非均向薄膜技术之发光二极体[A];海峡两岸第十七届照明科技与营销研讨会专题报告暨论文集[C];2010年
3 霍文培;饶强;李晶泽;;磁控溅射功率及基片温度对LiCoO_2薄膜的影响[A];第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集(第7分册)[C];2010年
4 ;TFC’07全国薄膜技术学术研讨会[A];TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2007年
5 徐大雄;;光学纳米薄膜技术及其在防伪、装饰方面的应用[A];第五届功能性纺织品及纳米技术应用研讨会论文集[C];2005年
6 吴嘉丽;李仁锋;谭刚;李红;;LPCVD多晶硅薄膜制备技术[A];第六届全国表面工程学术会议论文集[C];2006年
7 熊玉卿;王多书;罗崇泰;马勉军;;多波长激光告警及防护薄膜技术[A];中国真空学会2006年学术会议论文摘要集[C];2006年
8 沈伟;彭德全;沈晓丹;;先进无机材料表面的金属化—ZnO薄膜技术[A];全国第六届SMT/SMD学术研讨会论文集[C];2001年
9 沈伟;彭德全;沈晓丹;;先进无机材料表面的金属化——ZnO薄膜技术[A];2001年全国电子电镀年会论文集[C];2001年
10 田修波;吴忠振;巩春志;杨士勤;;高功率脉冲磁控溅射技术——灵活的薄膜技术[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年
中国重要报纸全文数据库 前10条
1 西南证券 窦昊明;利达光电(002189)光学薄膜技术彰显公司核心竞争力[N];中国证券报;2007年
2 陈晓平;薄膜技术的“推手”[N];21世纪经济报道;2008年
3 刘芝;薄膜科技及其应用[N];大众科技报;2000年
4 罗清岳;新一代单层透明薄膜技术[N];电子资讯时报;2007年
5 罗清岳;光学薄膜制程技术与应用[N];电子资讯时报;2006年
6 CUBN实习记者 刘安然;薄膜技术成新宠[N];中国联合商报;2010年
7 本报记者 张延龙;应用材料转向:薄膜技术还得“等一等”[N];经济观察报;2011年
8 记者 张珂;精英荟萃 共谋发展[N];中国包装报;2004年
9 卢庆儒;电子元件产品及技术发展趋势(四)[N];电子资讯时报;2006年
10 孙嵩泉 陈良范 赵建华;薄膜技术在国际上的成功应用[N];中国能源报;2010年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 赵晓华;单晶硅基LaB_6薄膜的磁控溅射制备工艺及生长机制[D];山东大学;2011年
2 柯贤文;ZnO薄膜的制备及其掺杂研究[D];武汉大学;2011年
3 张波;真空室内壁镀TiZrV吸气剂薄膜的工艺及薄膜相关性能的研究[D];中国科学技术大学;2011年
4 李幼真;纳米Ta基阻挡层的制备及性能研究[D];中南大学;2011年
5 周艳明;Ta及Ta-O薄膜的制备及其电学性能研究[D];湖南大学;2010年
6 初国强;有机发光与激光中薄膜技术研究[D];中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;2000年
7 李彦波;超高密度磁记录用介质和磁头材料的研究[D];兰州大学;2010年
8 熊杰;YBCO高温超导带材的制备和实用化研究[D];电子科技大学;2007年
9 刘莉莹;大气压射频Ar/H_2/SiCl_4等离子体射流实验诊断及其沉积硅薄膜研究[D];大连理工大学;2011年
10 谭永胜;稀土掺杂ZnO的制备与物性研究[D];浙江大学;2012年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 高国珺;真空阴极弧制备TiAlN薄膜的工艺及性能研究[D];长春理工大学;2011年
2 刘鑫;PVD制备超硬多层复合薄膜材料工艺与性能研究[D];长春工业大学;2010年
3 张勇;TiAlN硬质薄膜抗氧化性能研究[D];西华大学;2010年
4 蒋涛;40Cr表面多弧离子镀TiAlN/TiN复合膜层的工艺及性能研究[D];江苏科技大学;2010年
5 徐小军;TiAlZr钛合金及其TiAlN涂层滑移区高温微动磨损行为研究[D];西南交通大学;2011年
6 刘志远;磁控溅射制备TiAlN薄膜及性能分析[D];西华大学;2008年
7 王谦之;碳氮化物薄膜的环境摩擦学特性研究[D];南京航空航天大学;2010年
8 刘芳;基于二氧化铪的高介电常数薄膜的制备与研究[D];杭州电子科技大学;2010年
9 孙潇女;脉冲激光沉积法制备铟掺杂氧化镉薄膜及其光电性能研究[D];吉林大学;2010年
10 孙凤;Ti-Si-N材料薄膜组分扩展方法研究[D];大连理工大学;2011年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62791813
  • 010-62985026