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《哈尔滨工程大学》 2008年
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磁控溅射NdFeB/Co多层膜组织结构及磁性能研究

王刚  
【摘要】: 本文采用磁控溅射法制备了NdFeB单层膜以及NdFeB/Co交替多层膜,利用SEM、AFM、XRD、VSM、SQUID等方法,测定了薄膜的厚度、表面形貌、相结构和磁性能等,同时分析了调制结构和退火工艺对NdFeB/Co交替多层膜的微观结构及磁学性能的影响。 结果显示,薄膜的沉积速率随磁控溅射功率的增加而增大,随溅射气压的升高先增大后减小;薄膜厚度与溅射时间近似成正比;形貌分析显示,沉积速率是薄膜表面质量的关键影响因素。后续退火可以使溅射态非晶的NdFeB/Co多层膜晶化出Nd_2Fe_14B相和Co相。退火后薄膜更加平整、致密。随退火温度的增加,薄膜晶粒尺寸增大。经过适当退火工艺处理的多层膜具有较高的矫顽力、剩磁比和良好的垂直磁各向异性。 分析表明,调制结构对多层膜的磁性能有很大影响。薄膜矫顽力随着多层膜中Co层厚度的增大而下降,随多层膜中NdFeB层厚度增大而增大。多层膜中NdFeB层厚度为100nm,Co层厚度为10-30nm时,薄膜剩磁比较大。调制周期对多层膜磁性能影响不大。
【学位授予单位】:哈尔滨工程大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2008
【分类号】:TB383.2

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【引证文献】
中国硕士学位论文全文数据库 前3条
1 郭在在;NdFeB/Mo多层膜的制备与磁性能研究[D];哈尔滨工程大学;2010年
2 赵毅朝;NdFeB薄膜的制备及性能研究[D];太原科技大学;2011年
3 张凯;Mo、Sm的引入对NdFeB薄膜性能的影响[D];太原科技大学;2012年
【参考文献】
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1 崔艺涛;马云贵;杨正;朱明刚;郭朝晖;李卫;;W衬底层结构对NdFeB薄膜性能的影响[A];第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集[C];2004年
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【二级引证文献】
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【二级参考文献】
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