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《苏州大学》 2001年
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使用CHF_3/C_6H_6ECR等离子体沉积的氟化非晶碳薄膜的结构与性能

康健  
【摘要】: 用苯(C_6H_6)和三氟甲烷(CHF_3)混合气体作源气体,采用永磁微 波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECR—CVD)技术,成功 地制备了低介电常数的氟化非晶碳膜(a-C:F,H)。典型条件下膜的介电 常数为2.56。用TEM、XRD、XPS、UV—VIS、OES等测试手段对a-C:F,H 薄膜的结构和性能进行了表征。 TEM和XRD证明沉积的a-C:F,H膜是非晶的。 对不同功率条件下制得的a-C:F,H薄膜作FTIR和XPS分析,结果 表明膜中的氟主要以C-F,CF_2的形式成键。 改变沉积参数,沉积速率与等离子体放电产生的CH、CF、CF_2基 团呈现一致的变化规律,这表明,CH、CF、CF_2是主要的成膜前驱物基 团,这与薄膜的XPS分析结果相一致。 运用Tauc方程求出不同沉积条件下薄膜的光学带隙,当放电功率 改变时,膜中的F的含量与薄膜的光学带隙有相同的变化趋势。这可能 归因于膜中基团的相对含量变化和薄膜致密度的不同。 用低频阻抗分析仪和电桥法测量Ag/a-C:H,F/Si/Ag结构的电学性 能,薄膜电导在低场下呈欧姆特性;在高场下则是肖特基发射机制。
【学位授予单位】:苏州大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2001
【分类号】:O484.1;O484.4

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