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《苏州大学》 2001年
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外加磁场对平面磁控溅射的影响

朱炎  
【摘要】: 通过在基片下放置磁铁在放电空间中引入垂直基片方向的磁场,磁性靶的 溅射变得更加容易。与此同时,沉积薄膜的一些物理性能发生了变化,并且发 现这种效果也同样出现在溅射非磁性靶的情况。实验中观察到,在外加磁场的 作用下,等离子体放电的辉光的明亮程度及外貌和靶面自偏压发生了明显变化。 进一步对沉积薄膜的测量表明,薄膜的结晶情况和沉积速率也因为外加磁场而 发生了变化。我们认为,由于外磁场引起了放电空间中以及靶面附近磁场分布 的改变,从而影响了等离子体中带电粒子的运动并最终导致了上述变化。通过 细致的测量还发现,薄膜在膜面内存在明显的厚度梯度,这应当是沉积粒子受 梯度磁场作用的结果。另外由于外磁场改变了磁力线在靶表面处的分布,使得 靶面刻蚀环的位置,宽度及深度都发生了变化,因此适当分布的外磁场还可以 提高靶的利用率。
【学位授予单位】:苏州大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2001
【分类号】:TB43

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【引证文献】
中国硕士学位论文全文数据库 前6条
1 王维;圆平面磁控溅射靶的磁场优化及刻蚀模拟[D];东北大学;2009年
2 程金斌;薄膜锂电池正极LiCoO_2薄膜制备[D];国防科学技术大学;2005年
3 邢丽芬;矩形平面靶磁场分析及薄膜厚度模拟[D];东北大学;2006年
4 张焜;磁场非平衡度对磁控溅射Cr镀层沉积过程的影响[D];西安理工大学;2008年
5 丁小柯;磁场闭合状态对磁控溅射沉积纯Cr镀层生长过程的影响研究[D];西安理工大学;2009年
6 李鹤;矩形磁控溅射靶磁场仿真与优化设计[D];东北大学;2008年
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前4条
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【共引文献】
中国期刊全文数据库 前8条
1 朱炎,狄国庆,赵登涛;外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响[J];功能材料与器件学报;2001年04期
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6 陈晓;陈鹏;李丘林;刘伟;;强磁场下蒸镀法制备Co_3O_4薄膜[J];清华大学学报(自然科学版);2009年03期
7 陈晓;陈鹏;李丘林;刘伟;;强磁场下蒸镀法制备Co_3O_4薄膜[J];清华大学学报(自然科学版)网络.预览;2009年03期
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【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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5 唐武;邓龙江;徐可为;;金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系[J];稀有金属材料与工程;2008年04期
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9 程丙勋;磁控溅射制备Al膜和Cu膜的结构与性能研究[D];四川大学;2007年
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【二级引证文献】
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1 贺耀华;鲍明东;贺志勇;梁柔;王英芹;;闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究[J];真空;2010年03期
2 刘辛;徐斌;邹寅峰;;采用导磁片改造磁控装置提高靶材利用率[J];真空;2011年05期
中国博士学位论文全文数据库 前1条
1 于贺;不同溅射方法薄膜制备的理论计算及特性研究[D];电子科技大学;2013年
中国硕士学位论文全文数据库 前6条
1 王维;圆平面磁控溅射靶的磁场优化及刻蚀模拟[D];东北大学;2009年
2 张焜;磁场非平衡度对磁控溅射Cr镀层沉积过程的影响[D];西安理工大学;2008年
3 丁小柯;磁场闭合状态对磁控溅射沉积纯Cr镀层生长过程的影响研究[D];西安理工大学;2009年
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5 贺耀华;非平衡磁控溅射Ti-Ni合金薄膜的制备及其力学性能研究[D];太原理工大学;2010年
6 张峻豪;矩形磁控溅射靶的磁场模拟分析及优化[D];东北大学;2010年
【相似文献】
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10 李小娟;SnO_2材料的第一性原理研究及其薄膜制备[D];燕山大学;2008年
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