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《华中科技大学》 2007年
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紫外正型光刻胶及248nm产酸剂的研制

王霞  
【摘要】: 本文以盐酸羟胺、酸酐及对甲苯磺酰氯为原料合成了三种用于深紫外光刻胶的非离子型产酸剂N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯、N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯和N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯,优化了中间产物的合成条件,对合成的三种产酸剂的结构进行了FT-IR、1HNMR表征,并对其进行了溶解性、热稳定性、溶液和乙二醇固体膜层中的紫外吸收性及光解特性测试,实验结果表明,N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯和N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯有良好的溶解性、热稳定性及紫外吸收性和光解特性,且N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯较N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯性能好,两种产酸剂的使用温度均可达150℃。 用工业级试剂从100mL放大到2L合成了三种紫外光刻胶用主体树脂单体N-苯基马来酰亚胺、N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺和N-苯基甲基丙烯酰胺,与实验室制备的N-苯基甲基丙烯酰胺聚合合成了两种主体树脂聚苯乙烯共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺,对其进行了FT-IR和热性能测试,结果表明合成的两种主体树脂具有良好的耐热性能,玻璃化温度均在250℃以上。 在本实验室工作基础上用所合成树脂和产酸剂及其他助剂进行配胶,进行光刻工艺实验,实验结果表明,所得光刻胶体系具有良好的耐高温性能(Tg≥250℃),聚苯乙烯共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺体系分辨率可达1μm。
【学位授予单位】:华中科技大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2007
【分类号】:TQ421

【引证文献】
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1 姚新鼎;UV固化预聚体的制备及其固化涂层性能研究[D];郑州大学;2011年
【参考文献】
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【共引文献】
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5 郭宏仓;廖乐星;傅正生;;薄层色谱法分离氨基偶氮苯类化合物[A];西北地区第五届色谱学术报告会暨甘肃省第十届色谱年会论文集[C];2008年
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9 柳玲;陈永琴;王文广;张伟民;蒲嘉陵;;一种光敏CTP版材成像体系的研究[A];2008非银盐影像技术及材料发展与应用学术研讨会论文集[C];2008年
10 张志刚;徐世民;张卫江;李鑫钢;李春凤;刘范嘉;;工业级甲醇生产高纯甲醇的可行性研究[A];2005年全国塔器及塔内件技术研讨会会议论文集[C];2005年
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5 陈二丁;可渗透性微细水泥体系防砂技术研究[D];西南石油学院;2002年
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10 高成杰;多层螺旋CT辅助人体盆腔血管形态学研究[D];第一军医大学;2006年
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1 肖立华;冷却结晶法制电子级磷酸的研究[D];昆明理工大学;2008年
2 王友旺;接近式曝光图形复制的计算机辅助分析与工艺优化[D];电子科技大学;2010年
3 尚峰;基于奥林巴斯PROTECH2.5D软件平台的Canon光刻机线宽优化[D];电子科技大学;2010年
4 王琼;无源无线声表面波温度传感器的设计[D];浙江大学;2011年
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7 周永飞;用于3D图像显示的液晶光栅技术研究[D];电子科技大学;2011年
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10 张薇;多光束激光干涉图案的相移控制方法研究[D];长春理工大学;2011年
【同被引文献】
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1 陈建山,左光汉,许建毅,李莹;环氧丙烯酸酯类光敏预聚物的合成研究[J];安徽化工;2001年01期
2 杨光;黄鹏程;;环氧共混树脂的光固化及其表面化学反应[J];北京航空航天大学学报;2008年06期
3 万成龙;贺建芸;;水性紫外光固化聚氨酯丙烯酸酯树脂的合成[J];北京化工大学学报(自然科学版);2010年05期
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10 李照磊;高延敏;张丽华;;混杂聚合有机硅改性环氧丙烯酸酯的研究[J];电镀与涂饰;2009年02期
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5 焦泽鹏;水性紫外光固化树脂的合成以及结构与性能研究[D];暨南大学;2010年
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【二级引证文献】
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1 赖俊伟;杨建文;刘晓暄;;碳酸钙表面感光修饰及其在UV涂料中的应用[J];影像科学与光化学;2013年01期
【二级参考文献】
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5 柯旭;巫文强;王跃川;;用于玻璃刻蚀的新型光刻胶[A];2006年全国高分子材料科学与工程研讨会论文集[C];2006年
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3 盈如;永光建立世界级光刻胶供货商地位[N];电子资讯时报;2005年
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5 本文由永光化学电处技术发展部提供;光刻胶在LED工艺上的使用技术[N];电子资讯时报;2004年
6 张伟;FSI全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR技术[N];电子资讯时报;2006年
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1 林宏;新型紫外纳米牙印光刻胶的研究[D];上海交通大学;2012年
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8 盛斌;利用天然氧化层掩模的真空紫外硅闪耀光栅的湿法刻蚀制作[D];中国科学技术大学;2009年
9 郭育华;LIGA技术制作高性能微电子机械模具及其脱模性能的研究[D];中国科学技术大学;2007年
10 付世;磁致双稳态MEMS电磁微继电器的研制[D];上海交通大学;2008年
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1 王霞;紫外正型光刻胶及248nm产酸剂的研制[D];华中科技大学;2007年
2 刘干;化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用[D];江南大学;2008年
3 雷国韬;曲表面光刻胶涂覆技术研究[D];长春理工大学;2012年
4 杨瑞强;非离子型有机污染物在黄土中的吸附行为[D];西北师范大学;2002年
5 朱冬华;三苯胺多枝化合物为引发剂的光刻胶过程作用的研究与含三苯胺的化合物合成[D];苏州大学;2010年
6 苏雷;光刻胶黏附力对MEMS工艺影响的研究[D];天津大学;2012年
7 韩婷婷;超临界CO_2微乳液去除光刻胶的研究[D];山东大学;2011年
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9 周丰;对彩色滤光膜RGB光刻胶性质的分析与研究[D];复旦大学;2011年
10 陈明;掩模板光刻工艺研究[D];复旦大学;2011年
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