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《华中师范大学》 2004年
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ITO纳米粉的低温制备

张贤高  
【摘要】: 透明导电氧化物薄膜在光电产业扮演着很重要的角色。目前应用广泛的透明导电氧化物薄膜主要有氧化铟锡薄膜(ITO)、氧化锌铝膜(AZO)、掺锑氧化锡(ATO)等。 铟锡氧化物(ITO)是制造透明电极的重要材料。ITO薄膜导电性好,对可见光透明,对红外反射性强。ITO结构中的氧空位和锡掺杂使得它具有很强的导电性,较大的能带间隙宽度(E_g>3eV)使得它具有很强的光透明性。 因为ITO薄膜的优良光电性能、很强吸附能力、硬度高、化学性质稳定,使得ITO薄膜广泛地应用于很多领域:太阳能电池、液晶显示器、现代战机和巡航导弹的窗口等。 在铟锡氧化物(ITO)的研究领域里,有关ITO薄膜的研究进行了几十年。为了满足光电产业界对ITO薄膜的强大需求,ITO粉体的制备生产技术和薄膜的形成取得了很大的成效。目前,工业界主要是先将ITO粉制成靶材,再利用直流磁控溅射工艺,在材料的表面形成ITO薄膜。制备ITO粉体的方法有:液相沉淀法、减压-挥发氧化法、喷雾热分解法、共沉淀法、溶胶-凝胶法等。 金属铟和锡都是我国富产的有色金属,但是我国所用的ITO材料仍然来源于进口。因此,我们迫切要求改变原料廉价出口、产品高价进口的局面,以满足高技术领域对ITO薄膜材料的需求,创造巨大的经济效益与社会效益。 在这篇文章里,我们尝试用改进的水热法来制备ITO纳米粉末。将铟锡氢氧化物置于充满氩气的高压釜,在300℃,2MPa的条件下就可制得ITO的纳米颗粒。该方法与以前的方法相比,反应条件更加的柔和,在300℃就生成了ITO粉末,粒径大小为10-20nm,并且产物粒径的大小与前驱物的大小没有关系,这在工业界具有很重要的应用意义。
【学位授予单位】:华中师范大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2004
【分类号】:O484

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