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氩离子刻蚀金属氧化物还原现象的研究

李晓莉  
【摘要】:本文对氩离子(Ar+)刻蚀金属氧化物后发生的还原现象及引起还原的原因进行了系统研究,工作主要包括以下2个方面: (1)首次报道了利用Ar+刻蚀技术将氧化铜还原为氧化亚铜和金属铜的过程,并利用X射线光电子能谱(XPS)对还原过程进行了原位研究。 (2)通过一系列的Ar+刻蚀金属氧化物的实验,分析了Ar+刻蚀之后金属元素状态变化情况,结果表明Ar+刻蚀技术可使一些金属氧化物还原成低价态的金属氧化物共存态,甚至可将一些金属氧化物还原成金属态。我们主要从氧原子的择优溅射、金属价态的可变性、金属元素原子的金属性三个方面探讨Ar+刻蚀引起金属氧化物还原的原因。 本论文为金属氧化物深度剖析过程中的金属元素价态的判断以及表面清洁时Ar+刻蚀条件的选取提供理论和实验依据。


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