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大口径平面光学元件的数控抛光技术研究

朱海波  
【摘要】:当今人类正面临能量短缺的危机,而惯性约束核聚变(ICF)是解决这种情况的有效途径。在ICF高功率激光驱动系统中,所用的大口径光学元件的加工质量是整个系统中的关键问题之一,高精度的光学元件是提高整个系统的光束质量的前提,因此高精度、高效率的光学表面加工具有重大的经济价值。本文系统的研究了计算机控制小磨头抛光方法对ICF驱动系统中的大口径光学元件进行加工的理论知识以及在此理论基础上的具体工艺流程,所做的工作如下: 1.本论文对计算机控制光学抛光的技术发展做了一定的调研,对计算机控制光学抛光目前存在的主要问题作了总结; 2.本论文对光学玻璃抛光的机理做了研究和分析。对于目前的抛光方式,我们认为机械作用是基本的,化学作用是重要的,而流变现象是存在的。抛光去除实际上是这三种方式综合作用的结果。对计算机控制数控抛光的基础理论作了分析,对材料的去除函数和数控抛光的驻留函数作了分析和推导; 3.本论文介绍了AD-1000机床的结构和控制原理和检测设备,并全面吸收和消化,为进一步实验研究作准备; 4.在磨头悬边情况下,假设工件上的压强为线性分布的,对此种情况下不同悬边时的压强进行了分析,得出此种假设的压强分布的悬边值不能超过抛光盘直径的1/4,否则材料不仅不能被去除,还会得到增加。此结论对实际的加工过


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