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《昆明理工大学》 2009年
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头孢噻肟钠模拟制药废水的处理方法的研究

汤烜  
【摘要】:日益严重的水污染所产生的影响和压力给经济发展和生态环境带来重大的影响。其中,制药废水是造成水污染的原因之一,该废水也是最难处理的工业废水之一,特别是抗生素生产废水,它不仅难生物降解,而且还有抑菌作用,从而可能导致自然水体恶化,因此,寻求一种经济高效的水处理技术来有效处理这类废水就显得十分必要。 本文研究了活性炭、Fenton试剂等单一处理方法及其联合处理方法处理头孢噻肟钠模拟制药废水的效果。研究发现,采用高级氧化法与生物法联合处理技术,可有效处理该类废水,为该废水的工业处理提供了一定的理论依据。实验研究表明: (1)对低浓度头孢噻肟钠模拟制药废水的处理 采用单一处理技术(活性炭技术、Fenton试剂、光氧化技术及内电解技术)进行处理时,处理效果都不太理想,其中处理效果最好的是活性炭技术,但其CODcr去除率也仅达到52.6%。 采用多种高级氧化联合处理技术(活性炭/Fenton试剂、UV/Fenton试剂、UV/活性炭/Fenton试剂及内电解接触氧化还原法)进行处理时,处理效果均有较大提高,CODcr去除率均大于77%。 (2)对高浓度头孢噻肟钠模拟制药废水的处理: 采用多种高级氧化联合处理技术(活性炭/Fenton试剂、UV/Fenton试剂及UV/活性炭/Fenton试剂联合技术)进行处理时,在和低浓度处理的相同条件下,CODc,去除率有所降低,但废水的BOD5/CODcr大大提高(均大于0.5),明显提高了废水的可生化性。其中,UV/活性炭/Fenton试剂联合技术的处理效果最好,对于进水CODcr浓度为1134.8 mg/L的模拟废水,CODcr去除率达65.3%,BOD5/CODcr值达0.75。 采用高级氧化技术与生物法联合技术(UV/活性炭/Fenton试剂联合技术为预处理方法再接SBR法)对进水CODcr浓度为1134.8 mg/L的头孢噻肟钠模拟制药废水进行处理时,总CODcr去除率达82%左右。而采用UV/活性炭/Fenton试剂联合技术为预处理方法再接厌氧处理和SBR法处理时,则总CODcr去除率可提高至92.3%,出水达到GB8978-1996行业一级排放标准。 (3)采用UV/活性炭/Fenton试剂/SBR法联合技术对高浓度的头孢噻肟钠模拟生产废水的处理 对进水CODcr浓度为1194.1 mg/L的头孢噻肟钠/丙酮模拟生产废水进行处理时,总CODcr去除率达93.7%,出水达到GB8978-1996行业一级排放标准。 对进水CODcr浓度为1007.2 mg/L的头孢噻肟钠/丙酮/四氢呋喃模拟生产废水进行处理时,总CODcr去除率达90.4%,出水达到GB8978-1996行业一级排放标准。 研究表明,采用UV/活性炭/Fenton试剂/SBR法联合处理工艺对难生物降解的头孢噻肟钠类制药废水的处理是有效的,本研究为该类废水的处理提供了一种有效的处理工艺。
【学位授予单位】:昆明理工大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2009
【分类号】:X703

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