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《西安理工大学》 2002年 硕士论文
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镁合金微弧氧化膜层制备技术及其耐蚀性研究

吴国建  
【摘要】: 本文采用对比实验和正交实验的方法系统地研究了硅酸盐、磷酸盐、六偏磷酸盐和碳酸盐体系的镁合金微弧氧化处理液配方组成及微弧氧化处理工艺对微弧氧化陶瓷层性能的影响。借助于SEM、XRD和EPA等方法,观察了镁合金微弧氧化陶瓷层的生长特性、测定了陶瓷层的相组成和元素在陶瓷层不同深度的分布,分析了影响微弧氧化陶瓷层耐蚀性的主要因素。 本次研究优化出了磷酸盐体系、硅酸盐体系和六偏磷酸盐体系配方,并在此基础上研制出更优的配方及其工艺参数。研究表明,镁合金微弧氧化陶瓷层由疏松层、致密层和过渡层三部分组成。在不同的工艺参数下制得的微弧氧化陶瓷层其疏松层、致密层和过渡层的比例不同。微弧氧化时间、电流密度、电流占空比、电流频率、电解液组成和温度等各工艺参数对微弧氧化陶瓷层的耐蚀性能和膜层质量均有明显的影响。从组织结构观察发现陶瓷层的致密性、陶瓷层的厚度及相组成是影响其耐蚀性的内因,其中膜层致密性最为关键。微弧氧化工艺参数仅是影响微弧氧化陶瓷层耐蚀性的外因。微弧氧化陶瓷层主要由MgO、MgAl_2O_4(尖晶石相)和无定形相组成,且其相对含量随不同条件和位置而变化。膜层中无定形相含量高于80%,最高可达95%。


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