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《国防科学技术大学》 2004年
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全自动纳米多孔氧化硅薄膜折射率和厚度测定系统

刘菊  
【摘要】:纳米多孔氧化硅薄膜是一种具有超低介电常数、高孔隙率的纳米材料,主要应用在微电子方面。纳米多孔氧化硅薄膜的折射率和材料的孔隙率有密切关系,准确测量纳米材料的折射率可以判断材料的结构好坏,并对材料制备工艺进行评价。 “全自动纳米多孔氧化硅薄膜折射率和厚度测定系统”采用的测量方法是光的反射法,在选用氦氖激光作为、入射光源时,考虑到氦氖激光的单色性不会因为经过分束镜后发生变化;这是的入射光经起偏器起偏变成偏振方向单一的线偏振光后,到达分束镜,被分成两路:一路是用于实时监控,另一路则作为实际测量。用于实时监控的反射光束由探测器接收后直接传送到数据采集卡;用于实际测量的透射光束,被测样品表面反射后再到达探测器。由于测量需要任意改变或连续改变入射角度的大小,因此采用步进电机装置来实现。最后计算机处理得出纳米多孔氧化硅薄膜的参数值。 通过实验样机对被测样品的多次试验,发现样机对纳米多孔氧化硅薄膜的参数测定的重复性较好,数据误差基本上稳定在一定的范围,即:折射率的偏差0.1,厚度测量值的相对误差3%,达到预期的目的。
【学位授予单位】:国防科学技术大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2004
【分类号】:O484.41

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【参考文献】
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