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《中国人民解放军第四军医大学》 2003年
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氮化钛纳米膜改进磁性附着体性能的研究

孙世尧  
【摘要】: 口腔是有生物化学和电化学因素影响的复杂环境,具有较强的腐蚀性。因而对应用于口腔中的金属材料也提出了更高的要求。在磁性附着体的研究及临床应用中,我们发现磁性附着体在口腔中长期使用后所出现的腐蚀和磨损是导致磁性附着体的固位力下降的主要原因,也是影响磁性附着体远期应用效果的主要问题。进一步提高磁性附着体的耐腐蚀性和耐磨损性是解决这一问题的唯一途径。 近年来,随着当今各种镀膜技术,如化学气相沉积(chemical vapor deposition CVD)、物理气相沉积(physical vapor deposition PVD)、等离子体辅助化学气相沉积(physical chemical vapor deposition PCVD)、激光辅助化学气相沉积(laser chemical vapord eposition LCVD)、离子镀(ion plate IP)和离子束辅助沉积技术(ion beam assisted deposition IBAD)等不断完善和发展,使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蚀性的氮化钛纳米膜在国际和国内都得到了广泛研究与应用。 本实验应用离子束辅助沉积技术在磁性附着体衔铁铁铬钼合金表面制备氮化钛纳米膜,希望通过氮化钛纳米膜优异的理化性能,增强磁性附着体的耐蚀性和耐磨性,从而改进磁性附着体的性能,并且对铁铬钼合金材料本体特性没有影响。实验结果表明: 第四军医大学硕土学垃论文 1.离子束辅助沉积技术可以在铁铬铜软磁合金表面获得非常致密与基体 结合力极强的氮化钛纳米膜,膜与基体界面的结合力在65N—75N之间,完全 能够满足实验及临床长期应用。 2.铁铬钥合金表面镀氮化钛纳米膜处理前后磁性附着体磁力数值无明显 改变,方差分析统计学处理,p劝.05,无统计学差别。即镀膜后磁固位力无改 变。对磁性附着体的衔铁软磁合金进行镀膜处理,来研究改进磁性附着体性能 是可行的c 3.由自腐蚀电位所反映的腐蚀倾向;极化曲线反映的耐腐蚀性能;极化 电阻、腐蚀电流密度反映的腐蚀速度等电化学指标均表明经IBAD制备氮化钛 纳米膜的铁铬铝合金较未做表面镀膜处理的合金耐腐蚀性高。 4.制备氮化钛纳米膜组显微硬度值明显高于未镀膜组有显著性差异,氮 化钛纳米膜能够明显提高铁铬用合金的显微硬度,增强其耐磨性能。
【学位授予单位】:中国人民解放军第四军医大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2003
【分类号】:R783.1

【参考文献】
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【同被引文献】
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