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可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

王密  
【摘要】: 以存储密度高、存储寿命长为特点的光盘存储技术是信息科技的重要组成部分,存储介质一直是光存储技术中的关键问题。与无机材料相比,有机介质材料具有灵敏度高、容易加工和便于调整结构性能等特点。当前广泛使用的有机光存储介质包括菁染料、酞菁染料、偶氮染料等。由于菁染料与其他染料相比具有较好的溶解性能、易于制备、成本更低等优点,在光盘存储方面具有很大的研究和应用潜能,因此引起了人们的高度重视。 本论文简要介绍了可录光盘染料的基本概念,主要包括其记录机理、基本类型和其配制、涂布、洗边等主要工艺。 本论文的研究工作主要分为以下几个部分: 1.合成了四种光盘用菁染料(1)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚三碳菁高氯酸盐(2)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚三碳菁高氯酸盐(3)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚二碳菁高氯酸盐(4)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚二碳菁高氯酸盐 2.合成了两种单线态氧猝灭剂(1)3,4-二巯基-吗啉苯磺酸镍络合物季铵盐(2)N,N-二乙基-3,4-二巯基苯磺酰胺镍络合物季铵盐 3.合成了两种配对离子化合物(1)吗啉配对离子化合物(2)二乙胺配对离子化合物 4.采用红外光谱和核磁共振谱对上述合成产物进行结构表征,结果表明与理论结构相符;采用紫外分光光度计测定了所合成菁染料的吸收光谱;在碘-钨灯照射条件下对产物进行耐光性测试,结果表明上述两种单线态氧猝灭剂能够显著提高菁染料的耐光性。


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