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日光温室嫁接黄瓜与自根黄瓜对温度胁迫的生理应答反应

李志鑫  
【摘要】: 温度逆境是设施黄瓜生产时的一大障碍,虽然近年来对设施内的黄瓜在逆境下的研究有很多,但是就黄瓜结果期针对根系方面的研究还甚少,本试验就温度逆境下对设施内黄瓜结果期的根系进行了初步的研究,以期为设施内的黄瓜生产提供一些理论依据。试验选用黑籽南瓜为嫁接砧木,测定了嫁接黄瓜根系在温度胁迫下的反应。高温胁迫试验分为25~35℃,35~45℃,45~55℃三个处理。低温胁迫分为3~5℃、8~12℃、15~18℃三个处理。试验结果表明: 1、高温胁迫对根系的影响: 1.1高温处理后,在35~45℃处理下根系酶的活性最高,其次是25~35℃,最后是45~55℃处理。 1.2高温处理后,根系在25~35℃下所受到的膜脂过氧化的作用小于35~45℃处理,35~45℃处理小于45~55℃处理。 1.3高温处理后,在35~45℃处理中GSH的活性均要高于45~55℃处理下; 45~55℃处理的GSH活性小于25~35℃。 1.4高温处理后,在处理的前28d 35~45℃处理下AsA含量大于25~35℃,25~35℃大于45~55℃处理。 1.5高温处理后,与25~35℃相比35~45℃处理下根系中NR活性最高,而45~55℃处理低于对照。 2、低温胁迫对根系的影响 2.1低温处理后,嫁接黄瓜根系的酶活性高于自根黄瓜。 2.2低温处理后,嫁接黄瓜根系细胞受到的膜脂过氧化的作用的伤害比自根黄瓜小。 2.3低温处理后,嫁接黄瓜根系的AsA含量和GSH的活性高于自根黄瓜。 2.4低温处理后,与高温一样嫁接黄瓜要比自根黄瓜的NR活性高。 3、嫁接黄瓜要比自根黄瓜的根系具有更好抵抗温度逆境的能力。


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