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Co-N薄膜的制备与磁性研究

李博  
【摘要】: Co-N相属于典型的间隙化合物相,早期研究表明,Co-N相薄膜具有优良的铁磁性能和高垂直磁各向异性特点,有望应用于垂直磁记录介质中。对这类氮化物薄膜材料的结构及磁性研究多年来受到科学家们的广泛关注。 本论文以Ar和N2为放电气体,用直流磁控溅射方法在Si(111)基底上制备了Co-N薄膜,并对其进行了一系列表征:用X射线衍射(XRD)和选区电子衍射(SAED)对薄膜的结构进行了分析;用扫描电镜(SEM)确定了薄膜厚度并获得了薄膜的表面形貌;用超导量子干涉仪(SQUIDS)对薄膜的磁性进行了分析。通过这些表征,我讨论了氮气分压和溅射功率对Co-N薄膜结构和磁性性能的影响规律,优化了Co-N薄膜的制备工艺,获得了具有不同Co含量的Co4N化合物相,为Co-N薄膜材料的实际应用提供了依据。


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1 张磊;核交联聚(N-异丙基丙烯酰胺-co-N,N-二甲基丙烯酰胺)-b-聚已内酯胶束及紫杉醇控制释放研究[D];北京化工大学;2010年
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