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极紫外光刻投影光学系统优化设计

刘钰鑫  
【摘要】: 光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界最关注的焦点之一。极紫外光刻成为了下一代光刻技术最有力的竞争者。然而,要实现商业化,必须先克服技术上难关。 光刻是大规模集成电路的制造过程中最为关键的工艺,光刻物镜是光刻的核心,其性能直接决定了光刻的图形传递能力。本文介绍了极紫外光刻光学系统的设计原理,提出一种五反射镜的设计构思,它在光学质量、自由工作距离方面满足极紫外光刻商业化的要求。为了实现这个设计,文章对精密非球面加工和计算机辅助光学装校也作了一定探讨。 此外,论文针对投影光学系统,从光学设计要求出发,分析了影响光学系统成像质量的各种主要误差因素,并使用ZEMAX软件对设计结果进行了检验。


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