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计算机控制的反应离子刻蚀系统及刻蚀研究

虞江  
【摘要】: 本文阐述了微系统的发展过程,叙述了二元光学的研究现状和二元光学的成形过程,比较了几种不同的刻蚀方法。并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计。从设计者的角度详细说明了用计算机控制反应离子刻蚀机的硬件系统、接口设计和软件。并且设计了用单片机的脉冲调制技术实现了多路D/A转换。 反应离子束刻蚀是二元光学器件面形转移的主要方法。本文介绍了反应离子束刻蚀的原理并研究了离子源设计的一些经验参数和各种刻蚀参数对二元光学器件成形过程的影响,以及不同材料二元光学器件的刻蚀速率。 本文详细讨论了计算机控制的反应离子刻蚀机各个部分的硬件接口电路和设计思想。并重点介绍了用单片机实现数、模转换的基本思想以及电路设计和参数选择。 软件分为上位机软件和下位机软件两种,上位机软件是用C++语言编写的,通过一个定时程序使各个控制命令按一定的时序顺序的执行,并不断的检测是否有错误出现需要报警。下位机软件是用汇编语言编写的,使用了定时器中断和外部中断作为输出和输入。 本文在附录中还详细介绍了硬件部分的端口分布和引脚分布,以及各个端口引脚的功能。


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