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掺杂ZnO准一维超晶格纳米结构制备与物性研究

李大鹏  
【摘要】: 具有超晶格结构的InMO_3(ZnO)_m同系物化合物,由于拥有优良的光电性能,一直受到人们的关注。近年来,大量的InMO_3(ZnO)_m准一维超晶格纳米线被成功制备。但是到目前为止,所有报道的此类化合物的准一维纳米结构全部为非公度的超晶格纳米线。如何制备形貌更为丰富、公度性更好的InMO_3(ZnO)_m纳米结构,并且对其物理性质进行更深入的研究将是下一步InMO_3(ZnO)_m超晶格纳米材料研究的重点。本论文研究工作以InMO_3(ZnO)_m纳米材料为主要研究对象,从In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带的制备到结构表征、物理性质研究到InGaO_3(ZnO)_m轴向超晶格纳米线的制备与物性等几个方面,开展了一系列工作,具体包括以下几个方面: 1.In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带制备与输运性质研究 通过化学气相沉积自组装的方法成功制备出In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带。通过分析纳米带从宽面入射的选区电子衍射花样,结合X射线的结果,我们判定出产物中有In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带的生成,其中超晶格的堆垛方向沿纳米带的高度方向。并且给出了In_2O_3(ZnO)_m单斜结构单包与ZnO六方结构单包之间的转换关系,利用单斜结构对纳米带电子衍射花样进行了标定。通过将所得产物包裹在环氧树脂中进行切片处理,我们得到了具有超晶格结构的纳米带很截面高分辨照片,直接证明了产物中超晶格纳米带的生成。通过测量纳米带的Ⅰ-Ⅴ特性,在两端所加电压在-5V到+5V范围内,我们得到了最高达几十微安量级的电流,显示了十分优秀的半导体性能。 2.In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带的喇曼性质研究 由于超晶格结构的形成改变了ZnO的局域晶体结构,从而会使其振动特性发生改变。我们对比了超晶格纳米带和没有形成超晶格结构的In掺杂ZnO纳米带的喇曼光谱。两者具有明显的不同,相对于In掺杂ZnO纳米带拉曼光谱,In_2O_3(ZnO)_m平面超晶格纳米带的拉曼光谱中出现了一个位于621cm~(-1)的新的振动模式,并且属于ZnO特征振动模式的E_2(high)峰变弱且变宽。通过分析In_2O_3(ZnO)_m的局域晶体结构,我们认为,该新的振动模式来自于In_2O_3(ZnO)_m晶体结构中In-O层和In/Zn-O交界面处,一个O原子与三个In原子和一个Zn原子键连而形成的振动模式,是In_2O_3(ZnO)_m超晶格结构的特征振动模式。 3.InGaO_3(ZnO)_m轴向超晶格纳米线的制备与发光 采用化学气相沉积自组装的方法制备了InGaO_3(ZnO)_m轴向超晶格纳米线。高分辨透射电镜照片显示该纳米线具有完美公度的超晶格层状结构,每两层In-O层间夹四层In/Zn-O层。EDS谱显示在In/Zn-O层,有大量的In原子取代了Zn原子。我们在产物中还发现了具有完美公度的InGaO_3(ZnO)_5超晶格纳米线。和侧面向超晶格纳米带的生成。通过分析样品的发光光谱,显示超晶格纳米线的带边发射位置在3.23eV附近,相比于ZnO带隙,超晶格的带隙变窄。 4.几种特殊形貌的ZnO纳米结构的制备与物性研究 利用直接蒸发ZnO和In_2O_3混合物粉末,我们制备了ZnO纳米盘/纳米带复合结构。纳米盘的宽面为ZnO(0001)极性面,纳米带生长方向沿[11-20],宽面同样为ZnO(0001)极性面。光致发光谱显示,因为In掺杂,ZnO带边发射发生红移至409nm。在不同实验条件下,我们得到了ZnO纳米棒/纳米带的复合结构。通过蒸发ZnO和MnO_2粉末,我们得到了ZnO纳米塔和层状ZnO六棱柱准阵列。X射线衍射结果显示产物为ZnO纤锌矿结构。这些复合纳米结构,丰富了ZnO纳米结构的形貌。


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