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纳米碳/硅异质结的制备及其气敏性研究

陈惠娟  
【摘要】: 论文第一部分利用磁控溅射的方法在Si(100)基片上成功沉积了一系列不同结构的非晶碳膜(a-C),对其电输运特性和气体敏感特性进行了较为详细的研究。 首先,研究了在室温下NH3对碳纳米薄膜/硅(C/Si)异质结的电容-频率(C-F)特性的影响。主要结果为:在外加频率为50Hz时,当C/Si异质结从空气中转移到盛有少量NH3气体的锥形瓶中(浓度0.2ml/L),异质结的电容迅速地增加到在空气中的230%,改变外加频率,分别为1000、10000、100000Hz时,异质结电容分别增加到在空气中的200%、170%和130%,并提出了相应的理论模型解释了上述现象。研究表明,可以利用C/Si异质结的氨气敏感特性开发氨气传感器。 其次,研究了纳米针尖阵列(CNA)结构的制备条件和CNA/Si异质结的酒精气敏特性。其主要结果为:氩气气压对沉积的薄膜表面形貌有着较大的影响,只有在特定的Ar气压下沉积才能形成CNA结构。并且,酒精气体对CNA/Si异质结的电流-电压(I-V)和C-F特性具有显著的影响。尤其对于正向的I-V性质,当正向电压稳定时,将CNA/Si异质结从空气转移到含有少量酒精气体(0.64g/L)的锥形瓶中,其结电阻迅速地减小。经过多次实验发现异质结对酒精气体的敏感度随着薄膜厚度的增加而下降。在外加频率5000Hz下,重复测量酒精气体对异质结电容的影响,实验结果表明当异质结从空气转移到酒精气体中时,异质结的电容值迅速上升,上升到原来的140%,响应时间和恢复时间都非常短。该CNA/Si异质结在酒精气体传感器领域具有潜在的应用价值。 最后,研究了在室温下湿度对C/Si异质结电容的影响,选用过饱和盐溶液作为湿度值的标定。主要的实验结果为:在外加频率1000Hz下,当湿度从11%RH变化到95%RH时,该C/Si异质结的电容从~1000pF增加到~3000pF,并且结电容的变化随着湿度的改变呈现着较好的线性关系。研究表明,该C/Si异质结可作为湿度传感器材料。 论文的第二部分是用磁控溅射方法制备了纳米碳薄膜和纳米掺钯碳(Pd x C1-x)复合薄膜,并研究了其电学性质。结果表明:掺钯碳膜中含有更高的sp2杂化的碳原子,即在沉积薄膜的过程中,钯诱导sp2杂化的碳结构的形成。并且,掺钯碳薄膜的电阻值比纯碳薄膜下降了3个数量级,即薄膜中掺杂钯显著地提高了薄膜的电导率。还研究了纳米钯碳复合薄膜/硅(Pd x C1-x/Si)异质结对氢气的敏感特性,结果显示PdxC1-x/Si异质结对氢气的敏感度随着纳米掺钯碳薄膜中钯含量x的增加而上升。


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