液相电化学沉积类金刚石及掺杂类金刚石薄膜研究
【摘要】:
本文采用液相电沉积技术,首先在低电压下以不同浓度的乙腈水溶液作为碳源得到类金刚石薄膜。对得到的薄膜进行了一系列的结构表征和摩擦学性能测试,发现不同浓度的碳源,即碳源中水含量不同时,得到薄膜的结构和性能差别较大。碳源中水含量增大时,薄膜均方根粗糙度相应降低,组成薄膜的颗粒直径也逐渐减小。乙腈水溶液浓度为10%时,得到的电沉积薄膜致密均匀。而当乙腈水溶液浓度降到5%时,此时由于沉积过程中碳正离子浓度小,得到的薄膜颗粒不均。同时,拉曼光谱分析结果表明,随着碳源中水含量的增加,薄膜中sp3碳含量逐渐增加。薄膜的摩擦学性能测试结果表明,当乙腈水溶液浓度为10%时,薄膜与钢球的摩擦系数较低,且具有良好的减摩抗磨性能。润滑机理分析表明,类金刚石薄膜在摩擦磨损过程中形成转移膜。
另一部分是掺杂类金刚石薄膜的液相电化学合成。电化学沉积合成了掺氟和掺镍类金刚石薄膜。
氟掺杂类金刚石薄膜的碳源是三氟乙酸,沉积电压为2500V。较高的沉积电压在沉积过程中导致碳源在电极附近局部沸腾,产生大量气泡。这个过程可能导致薄膜的粗糙度增大。表征结果表明得到薄膜具有较高的粗糙度。氟的掺杂可以大大降低薄膜的表面能,得到的薄膜与水的接触角为150°左右。低表面能和一定的粗糙结构是形成超疏水材料的充要条件。
基于液相电化学沉积易于掺杂的优点,以二甲亚砜为碳源,醋酸镍为镍掺杂源,利用电沉积方法得到镍掺杂类金刚石碳薄膜。薄膜中镍部分被被氧化。而在镍掺杂薄膜中存在金刚石前驱体。
|
|
|
|
1 |
晋传贵;李晓光;;铅纳米线阵列的制备[J];化学通报;2007年05期 |
2 |
潘志峰;袁一方;刘慧;张利宁;;基于多孔氧化铝模板的一维ZnO纳米线的制备[J];半导体技术;2007年10期 |
3 |
潘志峰;袁一方;刘慧;张利宁;;基于多孔氧化铝模板的ZnO纳米线的制备[J];半导体光电;2008年01期 |
4 |
姚会军;刘杰;段敬来;莫丹;陈艳峰;张苓;侯明东;孙友梅;;离子径迹模板辅助法制备InSb纳米线[J];原子能科学技术;2008年S1期 |
5 |
姚会军;刘杰;侯明东;孙友梅;段敬来;莫丹;;离子径迹模板法制备纳米线[J];原子核物理评论;2006年01期 |
6 |
姚琴;王春芬;刘付胜聪;陈立东;;非水溶液中电化学沉积制备Sb_2Te_3热电薄膜[J];稀有金属材料与工程;2007年S2期 |
7 |
田瑀;王建中;于卫锋;曹荣根;宋云;宁西京;;醋酸对电化学沉积氮化碳薄膜的影响[J];中国科学(E辑:技术科学);2009年08期 |
8 |
黄立业,憨勇,徐可为;电化学沉积-水热合成法制备羟基磷灰石生物涂层的工艺研究[J];硅酸盐学报;1998年01期 |
9 |
李超,曹传宝,吕强,张家涛,项顼,朱鹤孙;氮化碳薄膜的电化学沉积及其电阻率研究[J];功能材料与器件学报;2004年01期 |
10 |
马臣;曲立杰;王颖慧;尹树春;;电化学沉积仿生羟基磷灰石涂层的研究现状与展望[J];佳木斯大学学报(自然科学版);2006年01期 |
11 |
罗婷;洪澜;任山;;半导体热电材料Bi_2Te_3膜的电化学制备[J];中山大学学报(自然科学版);2007年05期 |
12 |
张海明;余俊杰;李晓洁;胡国锋;李育洁;黄伯贤;;多孔氧化铝模板电沉积法制备ZnO纳米结构阵列的研究[J];人工晶体学报;2008年05期 |
13 |
李超,曹传宝,朱鹤孙,吕强,黄福林;阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜[J];应用化学;2004年01期 |
14 |
胡海宁,陈京兰,吴光恒,陈丽婕,刘何燕,李养贤,曲静萍;电化学沉积Fe与FePd纳米线阵列的磁性[J];物理学报;2005年09期 |
15 |
罗婷;任山;刘向阳;梁才华;张晨阳;刘杨;;SiO_2纳米颗粒对电化学沉积半金属Bi膜的影响[J];中山大学学报(自然科学版);2006年06期 |
16 |
刘会茹;周二鹏;于宏伟;牟微;韩明会;张星辰;;离子液体在电化学沉积中的研究进展[J];材料导报;2010年09期 |
17 |
王赬胤,陈玉静,王凤香,胡效亚;可控电化学沉积制备纳米碳纤维电极[J];扬州大学学报(自然科学版);2004年03期 |
18 |
陈刚,阎兴斌,刘惠文,徐洮;电化学制备CN_x薄膜及其结构表征[J];材料科学与工程学报;2004年05期 |
19 |
徐丽萍;袁志好;张晓光;;基于多孔氧化铝模板电沉积法制备多级枝状金属纳米线[J];科学通报;2006年16期 |
20 |
孙武珠;苏革;曹立新;柳伟;姜代旬;贾波;;镁镍功能薄膜的制备及电致变色性能的研究[J];功能材料;2008年09期 |
|