用于热光光开关的聚合物薄膜波导制作
【摘要】:光开关不仅是光交换的核心器件,也是影响全光网络性能的主要因素之一。结合高分子聚合物材料的优良性能,研究聚合物热光光开关的制备具有非常重要的意义。本文着重介绍了聚合物热光开关制作中的关键技术:聚合物薄膜平面波导的制作,主要内容如下:
介绍了聚酰亚胺材料的合成原理,并详细描述了材料的制备过程。
通过旋涂法制备了用于波导制作的高性能聚合物薄膜。讨论了部分工艺参数,如溶液浓度、旋涂转速、溶剂挥发性、吸水性等对薄膜质量的影响。分析了可能造成薄膜缺陷的原因,并对薄膜的性能如薄膜厚度、折射率、红外吸收特性和表面轮廓进行了测试以优化旋涂工艺。
通过磁控溅射在制得的聚合物薄膜上沉积了金属铝层,简单介绍了磁控溅射的工作原理。
通过光刻在溅射出的铝层上制作了微图形,铝层用90℃的浓磷酸腐蚀。详细介绍了整个工艺过程,并分析了可能导致缺陷的各种因素,以提高光刻精度。
利用ICP刻蚀技术在聚合物薄膜上制作了聚合物平面波导,采用氧气作为刻蚀气体,铝层作为金属掩膜层。分析了刻蚀过程中各工艺因素的影响,利用台阶仪对制得的聚合物波导进行了测试,并介绍了ICP刻蚀的基本原理和我们使用的ICP-2B刻蚀设备的结构。
本文详细介绍了用于热光光开关的聚合物薄膜平面波导的制作工艺,并通过大量的实验对其进行了分析和优化,最终制得了适合热光光开关制作的聚合物平面波导。为今后进一步摸索热光光开关制作工艺打下了坚实的基础,具有极高的实用价值。
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1 |
蒋庄德,赵则祥,王海容;基于ME MS的光开关研发与产业化问题[J];微细加工技术;2001年04期 |
2 |
谢世钟,陈明华,王国忠;光传送网中光开关器件的进展[J];中兴通讯技术;2002年04期 |
3 |
方华军,刘建设,任天令,刘理天;硅基PZT压电驱动MEMS光开关的设计与优化[J];微纳电子技术;2003年Z1期 |
4 |
廖先炳
,李蔚;光网络的核心器件——光交叉连接器[J];世界产品与技术;2003年01期 |
5 |
兰卫华,明安杰,梁静秋;国内MOEMS光开关的研究现状[J];光通信技术;2004年04期 |
6 |
正凡;英国长途通信研究所研制成世界上第一个完善的光开关[J];光电子.激光;1992年03期 |
7 |
康寿万,董玉和,庄婉如;光开关交叉角的上限和开关对数值孔径的影响[J];半导体学报;1995年12期 |
8 |
廖光炳;电磁激励的单晶Si微反射镜光开关的设计与制作技术[J];光子技术;2004年03期 |
9 |
刘浪;;微电子系统光开关[J];科技创新导报;2009年12期 |
10 |
艾恕;;纯光开关[J];激光与红外;1986年03期 |
11 |
龚小成,沈启舜,瞿文詠;高速时分复用光开关阵列的研制[J];上海交通大学学报;1994年02期 |
12 |
许天晖,庞翠珠,简水生;一种新型基于石英的热光型光开关[J];光通信技术;1998年01期 |
13 |
李宝军,李国正,刘恩科;1.55μmSi_(1-x)Ge_x/Si光开关与光探测器集成的分析及设计[J];中国激光;1998年07期 |
14 |
马军山,陈高庭,王向朝,方祖捷;用于光通信的微电子机械系统技术进展[J];激光与光电子学进展;1999年10期 |
15 |
陈高庭;自锁型2×2和1×4光开关[J];激光与光电子学进展;2002年11期 |
16 |
王科平,葛峻,秦明;MEMS静电执行光开关的设计与实验[J];电子器件;2003年03期 |
17 |
黄照祥,张阳安,黄永清,李玲,任晓敏;可重构光分插复用器(ROADM)的技术实现与性能评估[J];光通信技术;2004年12期 |
18 |
吴茂林;;采用新薄膜材料的光开关[J];电子技术;1984年07期 |
19 |
贾玉斌,陈良惠,李玉璋;一种微机械光开关的分析和设计(英文)[J];半导体学报;2001年07期 |
20 |
罗风光,曹明翠,徐军,周新军,万安君;与偏振无关的双向2×2光纤光开关[J];光电子.激光;2001年10期 |
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