收藏本站
收藏 | 论文排版

DMD用于数字光刻成像研究

刘驰  
【摘要】:信息时代对器件的微型化、轻量化、集成化的迫切需求,极大地推动了微细加工技术的发展,以微光学、微电子、微机械为基础的MEMS和MOEMS技术已在航空航天、光纤通信、光互联、光计算等高科技诸多领域展现出十分广阔的应用前景,将对本世纪的军事、工业生产、以及人们的生活产生深远影响。源于VLSI的平面光刻工艺用于制作微光学、MEMS、MOEMS器件的三维连续面型受到很大的局限。本文研究一种可制作微光学元件的DMD数字掩模光刻技术,应用数字化DMD显示器件建立数字光刻实验装置。根据DMD的周期结构的特点并考虑实际光刻系统的结构,建立一个可描述数字光刻成像过程的特殊的部分相干成像模型,并开展了数字灰度光刻制作微光学元件的实验研究。 论文中,分析研究DMD灰阶的产生方式。根据建立的基于DMD部分相干成像模型,对DMD单个微镜点成像,采用相干成像处理,对DMD阵列面成像采用非相干像强度叠加处理,并以数字光刻微透镜为例,进行计算模拟和分析。最后研究用数字光刻和生化酶化学湿法刻蚀卤化银明胶制作连续浮雕微光学元件工艺,实验制作了有较好面型的微透镜阵列。 DMD数字掩模光刻技术具有不需要常规掩模,方便曝光图形曝光量分布实时校正和不需要昂贵设备以及制作周期短等优点,为批量制作微光学元件提供了一条有效的新途径,对促进高性能的微电子、微光机电系统加工技术的发展有重要意义。


知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 徐文祥;王建;赵立新;严伟;;步进投影数字光刻技术研究[J];中国仪器仪表;2008年12期
2 ;四大公司联手研发纳米光刻技术,目标为线宽22nm[J];机床与液压;2006年04期
3 赵云;陶洪;兰林峰;覃东欢;曹镛;;三方晶硒纳米线的大面积合成及其场效应晶体管特性[J];真空与低温;2008年02期
4 赵富根;注塑模具型腔花纹的光刻技术[J];模具工业;1987年09期
5 李辉,张建民;先进IC制造技术在超精密加工中的应用与发展[J];新技术新工艺;2003年11期
6 何存富;冯喜旺;吴斌;王秀彦;李隆涛;;光刻技术在PVDF压电薄膜电极制作中的应用[J];传感器与微系统;2006年10期
7 谢常青,陈梦真;微细加工技术发展研究[J];科技导报;1995年01期
8 ;纳米光刻技术[J];中国新技术新产品精选;2001年Z1期
9 周耀华,王西彬,崔芳,贾玉萍;基于光刻技术微小型电极的制作[J];机械工程师;2005年01期
10 杨向荣;张明;王晓临;曹万强;;新型光刻技术的现状与进展[J];材料导报;2007年05期
11 胡石琼;王向晖;刘恩庆;史芹;余文娟;;图形化表面TiO_2薄膜的制备及其对内皮细胞附着形态的影响[J];功能材料与器件学报;2008年03期
12 郑月秋;应用于检测WC-Co复材料局部形变的新光刻技术[J];稀有金属材料与工程;1993年03期
13 ;光刻技术在胶木模具上的应用——蚀刻文字[J];低压电器;1973年01期
14 刘敏;;原子光刻技术[J];科技信息;2009年15期
15 穆道斌 ,沈卓身 ,王占华;封装用铝金属基板表面金属化图形的制作[J];新技术新工艺;2003年01期
16 彭祯艺;突破30纳米[J];科学大观园;2004年10期
17 ;美科学家开发出新兴微型化无机LED技术[J];硅酸盐通报;2009年S1期
18 杨亮生;黄提多;;国外典型半导体光刻设备介绍[J];光学仪器;1980年03期
19 伊福廷,Mino Green;纳米岛光刻技术及其应用[J];微细加工技术;2004年04期
20 杨永源;张启明;高志民;冯树京;;远紫外抗蚀剂发展动向[J];影像材料;1986年02期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 温尚明;;21世纪微电子光刻技术与设备的发展对策研究[A];西部大开发 科教先行与可持续发展——中国科协2000年学术年会文集[C];2000年
2 龚勇清;刘智怀;高益庆;罗宁宁;李平贵;;一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究[A];第十七届十三省(市)光学学术年会暨“五省一市光学联合年会”论文集[C];2008年
3 李涛;李洪祥;胡文平;;硅片上超微电极的光刻制备及其电化学表征[A];中国化学会第26届学术年会有机固体材料分会场论文集[C];2008年
4 纪强;姜学松;印杰;;结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法[A];2008非银盐影像技术及材料发展与应用学术研讨会论文集[C];2008年
5 纪强;姜学松;印杰;;结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法[A];2007年全国高分子学术论文报告会论文摘要集(上册)[C];2007年
6 张力;汤儆;马信洲;田中群;田昭武;曲东升;丁庆勇;孙立宁;;约束刻蚀剂层技术用于p型硅表面电化学微加工的研究[A];第十三次全国电化学会议论文摘要集(下集)[C];2005年
7 程冠晓;邢廷文;林妩媚;周金梅;邱传凯;廖志杰;马建玲;;低数值孔径振幅光子筛的设计和制作[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
8 张继成;吴卫东;许华;唐晓红;马小军;;微波等离子体离子束刻蚀技术[A];中国工程物理研究院科技年报(2005)[C];2005年
9 伊福廷;张菊芳;侯凤杰;;利用光刻技术研制雾化器的金属微孔阵列[A];2007年中国机械工程学会年会之第12届全国特种加工学术会议论文集[C];2007年
10 伊福廷;张菊芳;侯凤杰;;利用光刻技术研制雾化器的金属微孔阵列[A];2007年中国机械工程学会年会论文集[C];2007年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 谌廷政;微光学器件灰度掩模制作及应用技术的研究[D];国防科学技术大学;2004年
2 杨祎巍;纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究[D];浙江大学;2010年
3 刘鹏;材料表面微米—纳米杂合图案的制备技术研究[D];复旦大学;2009年
4 张锦;激光干涉光刻技术[D];四川大学;2003年
5 李志士;二维有序图案化蛋白阵列的制备及其SERRS光谱检测[D];吉林大学;2012年
6 王艳芳;聚合物多孔膜辅助构筑有机/无机有序微结构[D];吉林大学;2008年
7 白银冰;光纤微加工技术及器件应用研究[D];浙江大学;2013年
8 郭育华;LIGA技术制作高性能微电子机械模具及其脱模性能的研究[D];中国科学技术大学;2007年
9 卢迎习;层状组装聚合物薄膜的室温压印[D];吉林大学;2007年
10 李伟;应用图案化表面去润湿现象构筑微观有序结构[D];吉林大学;2007年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 刘驰;DMD用于数字光刻成像研究[D];四川大学;2005年
2 贺德建;纳米压印光刻技术原理与实验研究[D];华中科技大学;2004年
3 何帅;动态渐变灰阶数字掩模技术制作微透镜的研究[D];南昌航空大学;2010年
4 李扬环;反向光刻技术和版图复杂度研究[D];浙江大学;2012年
5 姚树歆;基于32nm光刻双重图形技术的研究和工艺实践[D];复旦大学;2011年
6 彭钦军;液晶实时掩膜光刻技术研究[D];四川大学;2003年
7 王平奇;数字光刻控制系统的研究与设计[D];南昌航空大学;2011年
8 郑楠;几种无机材料表面微沟槽的制备及其生物相容性研究[D];西南交通大学;2009年
9 刘伟庭;柔性微图形复制技术的研究[D];浙江大学;2003年
10 施军晓;基于AFM的电子束纳米级光刻技术研究[D];浙江工业大学;2004年
中国重要报纸全文数据库 前10条
1 王琰;EUV光刻技术将于2009年量产[N];中国计算机报;2004年
2 燕蕙;ASML支持EUV光刻技术[N];电子资讯时报;2004年
3 燕蕙;台积电明年中启用193纳米湿浸式光刻技术[N];电子资讯时报;2004年
4 李壮;纳米浸入式光刻技术工业化在即[N];中国高新技术产业导报;2005年
5 记者 刘志达;清华与荷兰ASML合作研究光刻技术[N];光明日报;2002年
6 吴宗翰 DigiTimes;光刻技术跟不上 发展恐有大瓶颈[N];电子资讯时报;2007年
7 ;光刻技术实现20纳米刻制工艺突破[N];中国计算机报;2003年
8 文月;AMD采用超紫外光刻技术制造测试芯片[N];电子资讯时报;2008年
9 杨春;台积电计划发展EUV光刻技术 技术和成本仍是最大障碍[N];电子资讯时报;2008年
10 记者 张孟军;四大公司联手研发纳米光刻技术[N];科技日报;2005年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978