电沉积Zn-Fe-SiO_2复合镀层的工艺及机理研究

【摘要】： 本文研究了电沉积Zn-Fe-SiO_2复合镀层的工艺和机理，主要包括以下几个方面： 绘制了Zn-H-2O系和Pe-H_2O系的电位-pH图，并对其进行了热力学分析，结果表明，锌和铁发生共沉积的区域很大，这就对电沉积Zn-Fe合金的可能性提供了理论依据，但是锌和铁的平衡电位差别较大，所以，必须在镀液中添入一定量的配合剂才能使锌铁产生共沉积。 确定了Zn-Fe-SiO_2复合镀层的电沉积工艺，其工艺条件为：FeSO_4·7H_2O120～200g／L、ZnSO_4·7H_2O 30～70g／L、(NH_4)_2SO_4 80～120g／L、C_6H_8O_7·H_2O30～50g／L、H_3BO_3 30g／L、抗坏血酸1g／L、SiO_2 20～60g／L、添加剂适量、pH值2～4、施镀时间60min、电流密度Dk 4～8A／dm~2、镀液温度15～25℃、搅拌速度200rpm。 电沉积Zn-Fe-SiO_2复合镀层的工艺研究表明，通过采用不同的工艺条件，可以获得成分不同的复合镀层。主盐浓度是影响Zn-Fe-SiO_2复合镀层铁含量最主要的因素，FeSO_4·7H_2O的添加有利于提高镀层铁含量，而ZnSO_4·7H_2O的添加有利于降低铁含量。导电盐(NH_4)_2SO_4的添加有利于提高镀层的铁含量，配合剂C_6H_8O_7·H_2O的添加有利于降低镀层的铁含量，但它们的影响比较小。温度对镀层铁含量的影响比较小，而且没有规律性。镀液pH值上升，可以导致镀层铁含量下降，但有利于提高SiO_2含量。电流密度对镀层成分的影响很大，铁含量在电流密度为6A／dm~2时最低，而SiO_2含量在电流密度为6A／dm~2时最高。SiO_2的添加在一定限度内有利于提高镀层的SiO_2含量，但基本上不影响锌铁的含量。 研究了Zn-Fe-SiO_2复合镀层(Pe 7.20～12.09％、SiO_2 0.40～0.51％)的耐蚀性，结果表明，Zn-Fe-SiO_2复合镀层无需钝化即具有较高的耐蚀性。在稀HC1溶液中，该复合镀层的耐蚀性与，Zn-Fe合金镀层相当，其耐蚀性的好坏主要决定于镀层中的铁含量，铁含量越大，镀层的耐蚀性就越好，在所掺杂含量的范围内，SiO_2的含量对镀层耐蚀性的影响不大；在5％NaCl溶液中，Zn-Fe-SiO_2复合镀层的耐蚀性要好于Zn-Fe合金镀层，大约为Zn-Fe合金镀层的1.5～4倍，更远远好于Zn镀层，大约为Zn镀层的3～20倍，并且Zn-Fe-SiO_2复合镀层的耐蚀性会随着铁含量的增大而降低，随着SiO_2含量的增大而提高。 昆明理工大学硕士学位论文摘要 首次提出了微双电层的概念，并从510:微粒表面微双电层、界面场强、 阴极极化等方面对510:微粒与Zn一Fe合金的共沉积过程进行了机理研究。结 果表明，510:微粒在镀液中可以吸附一定量的阳离子而显正电，这有利于它输 送到并吸附在阴极上与基质金属共沉积;界面场强对复合电沉积的影响较大， 这种影响可以通过电流密度对复合镀层中微粒含量的影响体现;Zn一Fe合金共 沉积时，Zn的存在使得Fe的沉积电位负移，Fe的存在使得Zn的沉积电位正 移，而且本来电位较负的Zn首先沉积，因此Zn一Fe合金共沉积属于异常共沉 积;5102微粒的加入对Zn一Fe合金共沉积的阴极电化学行为影响不大。