收藏本站
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

复合氧化铈的合成与其化学机械抛光性能

罗巍  
【摘要】:化学机械抛光(CMP)是精密光学器件制造业中运用最广泛的一种表面平坦化技术,而磨料的化学组成和物理性质对CMP过程有十分重要的影响。因此,制备高效的磨料成为研究的热点。本研究主要通过掺杂来改变粒子的物化性质,并将合成的抛光粒子用于光学玻璃和液晶玻璃的抛光。探讨了去除速率提高的原因和规律性,为设计和制备高效复合抛光粉提供新的视点。 以SnCl2·2H2O和Ce2(CO3)3·8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械化学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物。研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了它们对K9、ZF7玻璃的抛光性能。结果表明:复合氧化物的主晶相为立方莹石型氧化铈,次晶相为二氧化锡。随煅烧温度从800℃升高到1000℃,合成产物的结晶度提高,但抛光速率并不随之提高。具有抛光增强效果的复合氧化物是在800℃煅烧温度下合成的锡复配量超过50%的复合氧化物。达到最好抛光效果所需的Sn:Ce物质的量之比与抛光玻璃有关,ZF7玻璃为5:5,K9玻璃为6:4。 以Ce(NO3)3、La(NO3)3、Pr(NO3)3为原料,氨水为沉淀剂,采用共沉淀法制了不同组成比的复合Ce02抛光粉,并评价了它们的抛光性能。结果表明:合成抛光粉的抛光效果与组成有相关性,增加镨的量可以提高抛光效果,对K9玻璃和液晶玻璃抛光效果最好的组成比均为Ce/La/Pr=70:29:1,MRR值分别为343.9nm/min和136.1nm/min。随着Pr量的进一步增加,粉体形貌向棒状转变,对抛光效果的提升作用降低。 以氟化钠为原料,分别用共沉淀法和机械化学反应法来合成氟掺杂复合氧化铈抛光粉,并测定了它们抛光速率、粉体粒度、TPR、XRD以及Zeta电位。结果表明:共沉淀法可以制备出氟掺杂复合抛光粉,且对K9玻璃和液晶玻璃的去除速率均随氟掺杂量的增大呈峰形变化关系。最佳抛光粉的含氟量为5.16%wt,此时对K9玻璃和液晶玻璃的去除速率分别为409.2nm/min和167.7nm/min,粉体粒子呈球形,有较高的Zeta电位以及适中的粒度(1μm)。而机械化学反应法的掺氟效果差,对抛光速率的提高没有贡献。


知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 罗巍;周雪珍;李艳花;项神佑;李永绣;;超细锡铈复合氧化物的制备及其抛光性能[J];稀土;2011年03期
2 李霞章;陈杨;陈志刚;陈建清;倪超英;;氧化铈纳米颗粒的合成及其化学机械抛光性能[J];润滑与密封;2006年09期
3 苏建修,郭东明,康仁科,金洙吉,李秀娟;硅片化学机械抛光时运动形式对片内非均匀性的影响分析[J];中国机械工程;2005年09期
4 雷红,雒建斌,张朝辉;化学机械抛光技术的研究进展[J];上海大学学报(自然科学版);2003年06期
5 张朝辉,雒建斌;化学机械抛光中抛光液流动的微极性分析[J];北京交通大学学报;2005年01期
6 李振;邓乾发;郑晓锋;刘盾;王羽寅;袁巨龙;;化学机械抛光中抛光垫材料的研究与展望[J];新技术新工艺;2010年12期
7 张磊,雒建斌,张朝辉;利用荧光技术对二氧化硅胶体旋转流动特性的研究[J];润滑与密封;2005年02期
8 宋晓岚;李宇焜;江楠;屈一新;邱冠周;;化学机械抛光技术研究进展[J];化工进展;2008年01期
9 周海;王黛萍;王兵;陈西府;冶远祥;;化学机械抛光工艺中的抛光垫[J];机械工程与自动化;2008年06期
10 华钱锋;方海生;袁巨龙;;化学机械抛光用抛光垫的修整对修整效果的影响因素[J];轻工机械;2009年05期
11 胡岳华,何捍卫,黄可龙;弱碱性抛光液中铜化学机械抛光的电化学行为[J];中国有色金属学报;2001年06期
12 ;小金属篇[J];中国金属通报;2003年50期
13 赵文宏;周兆忠;吕冰海;;化学机械抛光过程中抛光垫修整的研究[J];新技术新工艺;2007年03期
14 胡伟;魏昕;谢小柱;;化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究[J];制造技术与机床;2008年01期
15 苏建修;高虹;陈锡渠;杜家熙;宁欣;康仁科;;铜化学机械抛光材料去除机理研究[J];金刚石与磨料磨具工程;2010年01期
16 段世蓉,白春义,聂秀珍,张怀礼,陆惠宝,李金英,高炳华,苏玉兰,李永红;氧化铈成分分析标准物质的研制[J];中国原子能科学研究院年报;1994年00期
17 卢冠忠,王幸宜,吴善良,汪仁;氧化铈对Cu-Mn-O燃烧催化剂氧化还原性能的影响[J];华东理工大学学报;1995年03期
18 王振华,陆世鑫,贾积晓,张德源;铈锆复合氧化物催化剂的储放氧能力和高温稳定性[J];稀土;2000年05期
19 刘玉岭,檀柏梅,李志,刘立威;ULSI制备中氧化硅介质化学机械抛光的研究[J];稀有金属;2000年06期
20 时文中,李冠峰,赵永和,朱国才;氯化铵氯化氧化镧氧化铈混合物及其动力学[J];信阳师范学院学报(自然科学版);2005年02期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 郑素娟;吕建刚;齐哲;唐盛;甘哲洪;薛念华;郭学锋;彭路明;丁维平;;~(17)O魔角旋转核磁共振研究氧化铈纳米粒子[A];第十六届全国波谱学学术会议论文摘要集[C];2010年
2 常敏;袁巨龙;楼飞燕;王志伟;;化学机械抛光技术概述[A];全国生产工程第九届年会暨第四届青年科技工作者学术会议论文集(二)[C];2004年
3 李志强;梁振锋;霍成章;顾珩;林衍州;肖方明;;纳米氧化铈的制备研究[A];2003年中国纳微粉体制备与技术应用研讨会论文集[C];2003年
4 徐进;雒建斌;路新春;潘国顺;;硅片化学机械抛光碰撞去除机理研究[A];人才、创新与老工业基地的振兴——2004年中国机械工程学会年会论文集[C];2004年
5 高莹;张荣斌;;氧化铈制备方法对Au/CeO_2催化剂催化氧化CO反应活性的影响[A];第十八届全国稀土催化学术会议论文集[C];2011年
6 张朝辉;雒建斌;温诗铸;;考虑抛光垫特性的CMP流动性能[A];全球化、信息化、绿色化提升中国制造业——2003年中国机械工程学会年会论文集(微纳制造技术应用专题)[C];2003年
7 屠绍春;;提高玻屏研磨氧化铈料浆供给的稳定性[A];电子玻璃技术学术论文集[C];2004年
8 田艳丽;闫雪锋;安利营;李彦红;李恒远;;氧化铈湿法化学分析改进为X-Ray荧光分析方法[A];2005年电子玻璃学术交流研讨会论文集[C];2005年
9 王胜利;武晓玲;刘玉岭;贾小欣;;铌酸锂晶片CMP中工艺参数对去除率的影响[A];2006年全国功能材料学术年会专辑[C];2006年
10 王永光;白静;赵永武;顾坚;;化学机械抛光的三体微观接触模型[A];2006全国摩擦学学术会议论文集(一)[C];2006年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 陈丰;微纳米分级多孔氧化铈生物遗态材料的构建及催化性能研究[D];江苏大学;2012年
2 王彩玲;300mm硅片化学机械抛光设备及其关键技术研究[D];大连理工大学;2010年
3 胡建东;铈基抛光粉的制备及其在CMP中的应用[D];南昌大学;2007年
4 王科;单晶MgO基片化学机械抛光机理与工艺研究[D];大连理工大学;2010年
5 蒋建忠;芯片化学机械抛光过程中材料吸附去除机理的研究[D];江南大学;2009年
6 王路辉;Ni–CeO_2催化剂上水煤气变换和逆水煤气变换反应的研究[D];天津大学;2008年
7 徐驰;基于摩擦力在线测量的化学机械抛光终点检测技术研究[D];大连理工大学;2011年
8 贾艳明;面向化学机械抛光的成品率驱动的布线算法研究[D];清华大学;2009年
9 刘敬远;硅片化学机械抛光加工区域中抛光液动压和温度研究[D];大连理工大学;2009年
10 刘瑞鸿;二氧化硅介质层CMP抛光液研制及其性能研究[D];大连理工大学;2009年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 罗巍;复合氧化铈的合成与其化学机械抛光性能[D];南昌大学;2011年
2 魏璟婧;氧化铈以及铈基复合氧化物三维微纳结构的构筑及催化性能研究[D];山东大学;2012年
3 王超登;氮化硅陶瓷某典型零件化学机械抛光工艺实验研究[D];湖南大学;2011年
4 马志芳;氧化铈基固体电解质材料性能的研究[D];河北工业大学;2005年
5 耿玉杰;聚苯胺/氧化铈复合涂层的制备及其防腐蚀性能研究[D];内蒙古科技大学;2011年
6 王垒;不同形貌氧化铈的制备与性能研究[D];兰州大学;2012年
7 耿玉杰;聚苯胺/氧化铈复合涂层的制备及其防腐蚀性能研究[D];内蒙古科技大学;2011年
8 杨志杰;氧化铈微纳结构材料的制备及性质研究[D];山东大学;2010年
9 魏红波;化学机械抛光工艺中相关问题的数值模拟[D];湘潭大学;2010年
10 杜宏伟;光电子材料钽酸锂晶片化学机械抛光过程研究[D];广东工业大学;2004年
中国重要报纸全文数据库 前10条
1 刘洪宇;英特尔最新任命6位英特尔院士[N];中国计算机报;2008年
2 任会斌 肖波 傅琰;稀土企业别好了伤疤忘了疼[N];中国化工报;2006年
3 记者  徐瑞哲;发丝上玩转上万个“魔方”[N];解放日报;2006年
4 潘巧丹 向羽 李玲娜;咬定技术进步不放松[N];中国高新技术产业导报;2005年
5 记者 呼跃军;我国攻关半导体稀土抛光液[N];中国化工报;2010年
6 卞辑;我区29个产品获“内蒙古名牌产品”称号[N];内蒙古日报(汉);2006年
7 呼跃军;包头5个稀土火炬项目通过验收[N];中国化工报;2006年
8 呼跃军;专家提醒:稀土扩能需谨慎[N];中国化工报;2006年
9 周祺 译;抛光工艺中的奥秘[N];中国黄金报;2006年
10 韦武斌;CIQ2000快速核放模块应尽快完善[N];中国国门时报;2006年
中国知网广告投放
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978