P型铜铁矿结构掺杂氧化物半导体CuAlO_2的制备及性能研究
【摘要】:透明导电氧化物(TCO)薄膜具良好的电导率、较高的可见光透射率等性能,因而在太阳能电池、平板显示等光电器件领域取得广泛应用。由于p-CuAlO2的电导率与n型TCO相比还是非常的低,限制了透明氧化物半导体器件潜在的应用,因此,制备性能优越的p型TCO材料具有重大的意义。本文采用柠檬酸络合的无机溶胶凝胶法制备铜铁矿结构CuAlO2粉末,引入掺杂元素Cr、Fe、Mg及Ca,并将所制备的粉末制备成陶瓷块体。利用差示扫描量热分析仪、X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外可见分光光度计、半导体测试仪等分析方法对前驱体的热分解过程、样品的物相结构、微观形貌、光学性能、导电性及导电机制等进行了研究,研究的具体内容及结果如下:
1).对于凝胶进行热分析,表明形成CuAlO2相的温度在1042-1084℃之间。煅烧温度为1100℃,时间为2小时可以形成纯铜铁矿结构CuAlO2相,CuAlO2粉末平均带隙宽度为3.75eV, CuAlO2粉末颗粒尺寸分布在50-200nm之间,EDS分析粉末样品的各元素比例为Cu:Al:O=1.18:1:2.41。
2).不同压制压力下制备的CuAlO2陶瓷样品,压制压力越大密度越大,电阻率越小,最大密度为4.56g·cm-3,最小电阻率为37.9Ω·cm。随烧结温度(1140-1170℃)的升高,陶瓷样品的密度先增大后减小。在近室温区,陶瓷样品电导率随温度变化符合Arrhenius规律,属于热激活导电机制,热激活能为0.288eV,由热探针法测量表明CuAlO2为p型半导体。
3).利用溶胶凝胶法成功将元素Cr、Fe、Mg及Ca掺入CuAlO2晶格当中,替代Al位。当分别掺杂1-7%Cr、Fe元素,仍为铜铁矿结构,掺杂Mg、Ca元素时,会产生CuO、MgAl2O4及CaAl4O7杂相。表明与A13+同为三价、电负性差较小、离子半径相近的元素Cr3+、Fe3+,更容易替代Al3+位进入CuAlO2晶格之中。
4).掺杂Cr、Fe的CuAlO2粉末样品平均带隙宽度分别为3.70eV、3.65eV,随着掺杂Mg的增加,使带隙宽度逐渐由3.70eV减小为3.11eV。对于掺杂Ca,当掺杂量为1%时,由于产生的晶格畸变小,由Burstein-Moss效应,带隙宽度比未掺杂的增大,带隙宽度为3.78eV。
51.掺杂Cr元素的CuAlO2陶瓷样品电阻率比未掺杂的增大,掺杂Fe元素时随着掺杂量的增大电阻率逐渐减小,当掺杂量为7%时,电阻率达到最小为14.81Ω·cm。随着Mg、Ca掺杂量(1-7%)的增多,电阻率逐渐增大。掺杂的陶瓷样品在近室温区满足Arrhenius热激活模式,表明属于半导体热激活导电机制。
6).同时掺杂Cr、Mg两种元素的CuAl0.99-xCrxMg0.01O2(x=1~7%)样品仍为铜铁矿结构,平均带隙宽度为3.60eV,比未掺杂的有所减小。但是随着掺杂量增加,载流子浓度增大,电阻率大幅降低,减小到16.13Ω·cm。在近室温区满足Arrhenius热激活模式,属于半导体热激活机制。
|
|
|
|
1 |
郝丕柱,裘南畹;金属氧化物气敏半导体表面受感性能的研究[J];电子学报;1994年08期 |
2 |
姚建年;氧化物半导体薄膜的光电效应及其应用[J];感光科学与光化学;1997年04期 |
3 |
傅竹西;过渡金属氧化物半导体薄膜的光子学特性及其应用[J];半导体杂志;1995年04期 |
4 |
郑莉光,孙良彦;氧化镍氧传感器的研究[J];传感技术学报;1989年03期 |
5 |
姚建年;过渡会属氧化物半导体薄膜的光电化学研究及其应用[J];世界科技研究与发展;1998年06期 |
6 |
丁海东;氧化物半导体甲烷敏感元件研究进展[J];传感器世界;2005年06期 |
7 |
;国际新闻[J];半导体行业;2008年04期 |
8 |
万轶超;王红霞;;d~0铁磁性的最新进展[J];科技信息;2011年11期 |
9 |
李春鸿;;SIS太阳电池[J];功能材料;1982年03期 |
10 |
范志新,孙以材,陈玖琳;氧化物半导体透明导电薄膜的最佳掺杂含量理论计算[J];半导体学报;2001年11期 |
11 |
李春鸿,姜克斌;真空热处理对氧化物半导体薄膜电阻的影响[J];半导体技术;1983年03期 |
12 |
王保国,王素梅,张金利,李韡,刘亚娟;纳米晶TiO_2半导体薄膜的制备和性能[J];化学工业与工程;2005年01期 |
13 |
卢革宇;全宝富;张彤;;气体传感器的最新进展[J];仪表技术与传感器;2009年S1期 |
14 |
林毓韬;徐涛;柳清菊;;碳纳米管及其掺杂氧化物半导体气敏传感器[J];功能材料;2011年07期 |
15 |
刘大猛,连贵君,熊光成;n型掺杂半导体In/Nb-SrTiO_3金属异质结变温J~V特性的研究[J];低温物理学报;2004年04期 |
16 |
古彦飞;季惠明;张颖;;氧化物半导体丙酮气敏传感器材料研究与应用[J];材料导报;2004年08期 |
17 |
姜楠;石明山;;Ⅱ族氧化物半导体光电子器件基础研究启动[J];红外;2011年03期 |
18 |
程知群,高启安;低温退火工艺对柔性基上ITO膜透光率的影响[J];半导体光电;1996年01期 |
19 |
;凸版印刷利用低温工艺的涂布型薄膜晶体管降低电子纸制造成本[J];现代显示;2010年01期 |
20 |
郝晓涛,张德恒,马瑾,杨莺歌,王卿璞,程传福,田茂华,马洪磊;柔性衬底氧化物半导体透明导电膜的研究进展[J];功能材料;2002年04期 |
|