1 |
任黎明,陈宝钦,谭震宇,顾文琪;一种新的散射电子空间输运坐标转换方法[J];光电工程;2002年03期 |
2 |
任黎明,陈宝钦;电子束曝光高斯分布束斑的Monte Carlo模拟[J];微细加工技术;2001年03期 |
3 |
杨清华,刘明,陈大鹏,叶甜春;高斯电子束曝光系统[J];电子工业专用设备;2005年02期 |
4 |
肖虹;;直接描画用的可变矩形电子束曝光装置[J];微纳电子技术;1982年05期 |
5 |
肖虹;;最小线宽为1μm的生产用电子束曝光装置[J];微纳电子技术;1985年05期 |
6 |
宋传杰,裘培勇;电子束曝光中能量沉积过程及沉积能分布规律[J];微细加工技术;1986年02期 |
7 |
宫内荣;须华生;;电子束曝光装置的研究现状[J];微纳电子技术;1976年09期 |
8 |
范正田;;用于超LSI技术的可变尺寸矩形电子束曝光装置[J];仪表技术与传感器;1978年01期 |
9 |
T.Sasaki
,郭先林;电子束曝光多束系统[J];微细加工技术;1983年01期 |
10 |
刘明,陈宝钦,张建宏,李友;电子束曝光中的邻近效应修正技术[J];微细加工技术;2000年01期 |
11 |
田丰,靳鹏云,彭开武,韩立,顾文琪;高能电子束曝光技术研究[J];微细加工技术;2004年04期 |
12 |
魏强,张玉林,宋会英;基于低能电子束的光刻技术[J];电子工业专用设备;2005年02期 |
13 |
常殿诚;;研制超大规模集成电路的电子束曝光[J];仪表技术与传感器;1979年04期 |
14 |
刘长发;吴贵儒;马菊仙;;电子束成象的研究[J];自动化学报;1983年03期 |
15 |
吴健昌
,许春高
,吴明华;国外电子束曝光、聚焦离子束曝光和X射线曝光最新文献索引[J];微细加工技术;1992年01期 |
16 |
王绍钧;二维场的一个校正函数[J];科学通报;1994年23期 |
17 |
王绍钧;一种平面区域的剖分[J];微细加工技术;1994年02期 |
18 |
胡咏梅,姚作宾,王绍钧;电磁场校正的子域变换和畸变速率补偿法[J];微细加工技术;1996年02期 |
19 |
赵玉清,唐天同,徐蛟;STM选择局部氧化硅表面构造纳米结构图形的研究[J];真空科学与技术学报;1999年01期 |
20 |
杜伟;许兴胜;韩伟华;王春霞;张杨;杨富华;陈弘达;;高质量二维光子晶体结构刻蚀掩膜版的制作方法[J];半导体学报;2006年09期 |