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KDP晶体的磁流变抛光技术研究

马彦东  
【摘要】: KDP晶体是一种重要的高科技材料,同时由于该材料硬度低,易溶于水,表面容易雾化、潮解,因此很难加工。目前针对KDP材料有超精磨削、金刚石车削等加工方法,虽然这些方法都能获得一定精度,但仍存在一些问题。而磁流变抛光作为一种新型的确定性抛光方法,具有许多其它方法不可比拟的优点。因此本文利用磁流变抛光技术对KDP材料进行抛光,研究工作主要包括以下几个部分: 1、根据KDP晶体的加工要求,对机床进行结构分析,包括机床模态分析和横梁最大变形分析;在分析磁流变抛光装置的功能要求的基础上,设计磁流变抛光装置,并对电磁铁进行磁场分析,将计算结果与ANSYS软件的仿真、实际测量结果进行比较。 2、分析KDP晶体对磁流变抛光液的具体要求;分析磁流变抛光液各成份对KDP的影响,确定抛光KDP晶体的磁流变液的组成成份和比例,并确定磁流变抛光液的配制工艺,最后对该磁流变抛光液进行性能测试。 3、对磁流变抛光KDP的机理作简单分析,为磁流变抛光KDP的工艺实验打下基础。 4、对KDP进行工艺实验,研究主要工艺参数对KDP材料的去除效率及表面粗糙度的影响,并结合磁流变抛光KDP晶体的机理进行分析。最后对KDP晶体的清洗工艺进行了研究,使抛光后的KDP表面能够进行检测。


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